熔鹽脈沖電解法鈦表面制備滲硼層的研究.pdf_第1頁(yè)
已閱讀1頁(yè),還剩69頁(yè)未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、采用熔鹽脈沖電解法在鈦表面制備滲硼層,利用單因素法研究電解溫度、電解時(shí)間、電流密度以及占空比等工藝參數(shù)對(duì)滲層成分、厚度、組織、物相等的影響規(guī)律,考察滲硼對(duì)硬度和耐腐蝕性能的影響;通過熱力學(xué)計(jì)算,對(duì)熔鹽脈沖電解滲硼過程中可能發(fā)生的反應(yīng)及生成產(chǎn)物進(jìn)行分析;同時(shí),從動(dòng)力學(xué)角度,對(duì)硼在鈦中的擴(kuò)散行為進(jìn)行研究,計(jì)算出熔鹽脈沖電解條件下硼在純鈦中的擴(kuò)散系數(shù)以及擴(kuò)散激活能。研究結(jié)果表明:
  1)電解溫度越高,電解時(shí)間越長(zhǎng),對(duì)應(yīng)的沉積速率越大,

2、制備的鈦硼化物滲層越厚,晶粒也越大;時(shí)間過長(zhǎng)后滲層開始出現(xiàn)裂紋;電解溫度較低(800℃和840℃)、時(shí)間較短(60min)時(shí)形成的晶粒細(xì)小、致密且平整,滲硼效果較好。占空比越小,沉積速率越大,但對(duì)滲層厚度影響不大。電流密度為60 mA/cm2時(shí),所得滲硼層晶粒較為細(xì)小、無(wú)裂紋。不同工藝條件下所得滲硼層的組成相均含有TiB、TiB2,并且TiB在(111)晶面具有擇優(yōu)取向。
  2)滲硼使得鈦基體的硬度和耐蝕性均得到提升:表面顯微硬

3、度相對(duì)于基體提高了約6倍,最高可達(dá)2259.3HV0.05;開路電位(OCP)、電化學(xué)交流阻抗(EIS)和動(dòng)電位極化曲線等電化學(xué)方法的測(cè)試數(shù)據(jù)均表明試樣經(jīng)滲硼處理其耐腐蝕性得到了顯著提高。
  3)經(jīng)熱力學(xué)分析得出滲硼過程中的三個(gè)反應(yīng) Ti+B=TiB、Ti+2B=TiB2、TiB+B=TiB2的吉布斯自由能(ΔG)均為負(fù),說明反應(yīng)均能發(fā)生,驗(yàn)證了鈦表面滲硼層的主要組成相為TiB和TiB2。通過動(dòng)力學(xué)計(jì)算得到不同溫度下硼在鈦基體中

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論