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文檔簡介
1、高精度光學(xué)系統(tǒng)中介質(zhì)的非均勻性往往會影響到系統(tǒng)的成像質(zhì)量等性能。隨著技術(shù)的發(fā)展,對光學(xué)系統(tǒng)的性能要求越來越高,那么系統(tǒng)中介質(zhì)的非均勻性就成為了影響其性能的重要因素。在光學(xué)測量、半導(dǎo)體光刻、航空測繪等領(lǐng)域中使用到的光學(xué)系統(tǒng)都會遇到非均勻介質(zhì)的問題,所以研究光學(xué)系統(tǒng)中的非均勻介質(zhì)對提高系統(tǒng)的性能有著重要的意義。
本文利用多項式擬合、有限元等方法對非均勻介質(zhì)的折射率場分布進行描述,然后使用光線光學(xué)的方法模擬仿真出光線在非均勻介質(zhì)
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