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文檔簡(jiǎn)介
1、半導(dǎo)體材料一般具有較強(qiáng)的光學(xué)非線性效應(yīng),在半導(dǎo)體激光器、光開關(guān)、光限幅、光信息處理等方面具有重要的應(yīng)用價(jià)值。新型的Ⅲ-V族化合物半導(dǎo)體InN是直接能隙半導(dǎo)體材料,禁帶寬度對(duì)應(yīng)紅外波段,同時(shí)載流子濃度、表面電子濃度和電子遷移率很高,在紅外光電器件、非線性光子器件等方面具有很大的潛力。
近年來(lái),對(duì)氮化銦光學(xué)非線性方面的研究主要集中在InN薄膜材料,本文主要利用反射Z-掃描技術(shù)研究InN體材料在可見波段的光學(xué)非線性性質(zhì),并利用透射Z
2、-掃描技術(shù)研究其在近紅外波段的非線性吸收特性。
本文從反射 Z-掃描技術(shù)的理論出發(fā),數(shù)值模擬了線性折射、線性吸收、入射角度等物理參數(shù)對(duì)開孔反射 Z-掃描反射光能量的影響,通過分析討論得出開孔反射 Z-掃描不受非線性吸收的影響的條件。通過半透明半導(dǎo)體材料ZnSe的透射Z-掃描測(cè)量中掃描樣品和移動(dòng)透鏡的實(shí)驗(yàn),結(jié)合其移動(dòng)透鏡反射 Z-掃描實(shí)驗(yàn),比較實(shí)驗(yàn)結(jié)果得出移動(dòng)透鏡進(jìn)行反射 Z-掃描實(shí)驗(yàn)的方案是可行的,而且與掃描樣品的反射 Z-掃
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