氧化鎂摻雜六硼化鑭放電材料研究.pdf

1、等離子體顯示器（PDP，Plasma Display panel），是一種采用氣體放電，主動(dòng)發(fā)光的顯示技術(shù)，相對于其他顯示器PDP有許多優(yōu)點(diǎn)：屏幕薄、重量輕、亮度高、響應(yīng)速度快、灰度等級高，同時(shí)內(nèi)部結(jié)構(gòu)簡單，工藝方便，適合批量生產(chǎn)。但是PDP功耗偏高，在節(jié)能環(huán)保的今天不利于PDP的發(fā)展。所以本文從PDP的保護(hù)層出發(fā)，改變其原有的保護(hù)結(jié)構(gòu)，在原單一MgO保護(hù)層上鍍上復(fù)合薄膜，提高薄膜的二次電子發(fā)射系數(shù)，降低放電延遲時(shí)間，提高PDP的放電效

2、率（提升屏幕亮度）。根據(jù)國際上的研究成果，本文采用射頻濺射的方法在 AC-PDP前基板上鍍上MgO-LaB6復(fù)合薄膜。
　　1、通過改變?yōu)R射時(shí)間和濺射功率來研究射頻濺射對 LaB6薄膜的影響。測試發(fā)現(xiàn)隨著濺射功率的增加LaB6薄膜（100）晶向得到充分的生長，保證了LaB6優(yōu)秀的放電特性。在延長濺射時(shí)間時(shí)發(fā)現(xiàn)，磁控濺射鍍膜時(shí)膜的厚度不與時(shí)間成正比關(guān)系，時(shí)間越長薄膜生長越緩慢。另外經(jīng)由XPS測試得出，腔體內(nèi)氧含量較少的情況下，LaB

3、6成分不會(huì)被改變。
　　2、課題探索了在不同濺射功率和不同 LaB6摻雜比例下薄膜的性能，發(fā)現(xiàn)摻雜LaB6質(zhì)量比為3％的靶材（MgO-LaB6）在100W功率下薄膜的生長較好，透過率也比較理想。從復(fù)合薄膜的XPS分析中得出，薄膜中La元素和B元素存在間隙到MgO結(jié)構(gòu)中的可能。
　　3、通過對測試裝置的闡述，分析了采用雙向脈沖控制電源的原因，同時(shí)也提出了電源在測試薄膜放電時(shí)存在的一些問題和大致解決方法，從中可以發(fā)現(xiàn)電路的設(shè)計(jì)會(huì)

4、影響 AC-PDP的功耗。隨后，課題對基片老煉進(jìn)行了分析研究，得出合理的老煉方法有利于提高薄膜的放電特性。在輝光放電下，基片老煉10h后，基片薄膜表面得到穩(wěn)固，著火電壓降低并得到穩(wěn)定。
　　4、在不同 Xe氣濃度和不同氣體壓強(qiáng)下測試得出了優(yōu)化后的工藝參數(shù)，濺射功率為100 W，MgO-LaB6靶材中LaB6的質(zhì)量比為3%，濺射時(shí)Ar:O2為80:5（單位sccm）。放電測試數(shù)據(jù)表明，在10%Xe-Ne，400torr氣壓下，雙層介