多孔硅基光學梳狀濾波器的技術研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、多孔硅基光子器件由于其折射率在制作過程中可通過控制腐蝕條件來改變而具有潛在應用價值。多孔硅梳狀結(jié)構(gòu)具有光滑的折射率分布，可以提高光學器件的性能，在近紅外范圍內(nèi)的單個和多個帶隙的梳狀結(jié)構(gòu)已經(jīng)被廣泛應用于化學和生物傳感器。
　　本研究基于電化學腐蝕硅的機理，通過電化學陽極氧化法，在p型單晶硅上制備了近紅外光譜范圍（1μm-3μm）內(nèi)工作的多孔硅光學梳狀濾波器。為了提高濾波器的發(fā)光質(zhì)量，首先對梳狀多孔硅反射光譜的影響因素進行研究，在此基

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