無(wú)鉛鈦酸鉍鈉鉀薄膜的制備與熱釋電性能研究.pdf_第1頁(yè)
已閱讀1頁(yè),還剩52頁(yè)未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶(hù)提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、眾所周知,如鈦酸鉛和鋯鈦酸鉛等鉛基鐵電體因其擁有優(yōu)越的介電性能、壓電性能、鐵電性和熱釋電性能而被廣泛應(yīng)用在電子器件中,已成為不可缺少的功能材料。但這類(lèi)材料在制備過(guò)程中常需要高溫處理,而高溫會(huì)造成鉛的嚴(yán)重地?fù)]發(fā)。這種現(xiàn)象不僅對(duì)材料本身的性能造成損失,而且在材料的制備和應(yīng)用的過(guò)程中對(duì)環(huán)境也會(huì)造成嚴(yán)重的污染。因此,制備具有優(yōu)越性能的不含鉛的鐵電材料為目前需要研究的重點(diǎn)。
  本文采用溶膠-凝膠法制備了(Na0.85K0.15)0.5Bi

2、0.5TiO3(NKBT)薄膜,并引入Pb0.8La0.1Ca0.1Ti0.975O3(PLCT)與LaNiO3(LNO)為種子層,成功得到了能在較低溫度結(jié)晶并具有高性能的復(fù)合薄膜。在引入種子層的基礎(chǔ)上,制得PLCT/NKBT多層復(fù)合薄膜,研究了多層結(jié)構(gòu)對(duì)薄膜的影響。種子層的引入、薄膜的多層結(jié)構(gòu)和薄膜的退火溫度對(duì)薄膜的性能有著至關(guān)重要的影響。選取合適的種子層和薄膜結(jié)構(gòu),同時(shí)控制薄膜的退火溫度是獲得高性能薄膜的重要途徑。通過(guò)PLCT種子層

3、的引入,成功地降低了NKBT鐵電薄膜的結(jié)晶溫度。研究發(fā)現(xiàn),種子層優(yōu)化的NKBT薄膜在550℃晶化時(shí)具有較低的介電常數(shù),以及較高的熱釋電系數(shù),因此可以獲得了較高的探測(cè)優(yōu)值。PLCT/NKBT多層復(fù)合薄膜在500℃退火時(shí),降低了界面間的擴(kuò)散的現(xiàn)象,使得多層薄膜具有優(yōu)異的性能,特別是熱釋電性能。為了獲得真正的無(wú)鉛薄膜,在研究PLCT優(yōu)化的KNBT薄膜基礎(chǔ)上,對(duì)LNO優(yōu)化的NKBT薄膜進(jìn)行了進(jìn)一步研究,發(fā)現(xiàn)在NKBT/LNO復(fù)合薄膜中,500℃

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶(hù)所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶(hù)上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶(hù)上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶(hù)因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論