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1、眾所周知,如鈦酸鉛和鋯鈦酸鉛等鉛基鐵電體因其擁有優(yōu)越的介電性能、壓電性能、鐵電性和熱釋電性能而被廣泛應(yīng)用在電子器件中,已成為不可缺少的功能材料。但這類(lèi)材料在制備過(guò)程中常需要高溫處理,而高溫會(huì)造成鉛的嚴(yán)重地?fù)]發(fā)。這種現(xiàn)象不僅對(duì)材料本身的性能造成損失,而且在材料的制備和應(yīng)用的過(guò)程中對(duì)環(huán)境也會(huì)造成嚴(yán)重的污染。因此,制備具有優(yōu)越性能的不含鉛的鐵電材料為目前需要研究的重點(diǎn)。
本文采用溶膠-凝膠法制備了(Na0.85K0.15)0.5Bi
2、0.5TiO3(NKBT)薄膜,并引入Pb0.8La0.1Ca0.1Ti0.975O3(PLCT)與LaNiO3(LNO)為種子層,成功得到了能在較低溫度結(jié)晶并具有高性能的復(fù)合薄膜。在引入種子層的基礎(chǔ)上,制得PLCT/NKBT多層復(fù)合薄膜,研究了多層結(jié)構(gòu)對(duì)薄膜的影響。種子層的引入、薄膜的多層結(jié)構(gòu)和薄膜的退火溫度對(duì)薄膜的性能有著至關(guān)重要的影響。選取合適的種子層和薄膜結(jié)構(gòu),同時(shí)控制薄膜的退火溫度是獲得高性能薄膜的重要途徑。通過(guò)PLCT種子層
3、的引入,成功地降低了NKBT鐵電薄膜的結(jié)晶溫度。研究發(fā)現(xiàn),種子層優(yōu)化的NKBT薄膜在550℃晶化時(shí)具有較低的介電常數(shù),以及較高的熱釋電系數(shù),因此可以獲得了較高的探測(cè)優(yōu)值。PLCT/NKBT多層復(fù)合薄膜在500℃退火時(shí),降低了界面間的擴(kuò)散的現(xiàn)象,使得多層薄膜具有優(yōu)異的性能,特別是熱釋電性能。為了獲得真正的無(wú)鉛薄膜,在研究PLCT優(yōu)化的KNBT薄膜基礎(chǔ)上,對(duì)LNO優(yōu)化的NKBT薄膜進(jìn)行了進(jìn)一步研究,發(fā)現(xiàn)在NKBT/LNO復(fù)合薄膜中,500℃
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