

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文檔簡介
1、隨著科技的高速發(fā)展,對材料性能的要求越來越高,單一結(jié)構(gòu)的材料無法滿足工業(yè)的需要,迫切需要高性能的復(fù)合材料。納米復(fù)合鍍是一種制備復(fù)合材料的新興技術(shù),廣泛應(yīng)用于工業(yè)中。碳納米管作為一種獨特的納米材料,具有優(yōu)異的性能。本文將碳納米管作為復(fù)合鍍層的增強相,制備了鎳-碳納米管復(fù)合鍍層。研究的內(nèi)容和結(jié)論如下:
(1)首先采用混酸氧化對碳納米管進(jìn)行改性。通過SEM觀察可以發(fā)現(xiàn),混酸處理后碳納米管長徑變短,團(tuán)聚減少。紅外結(jié)果表明酸氧化后表面帶
2、有活性基團(tuán)。XRD結(jié)果表明酸處理使碳納米管的結(jié)晶性變好。改性后的碳納米管在水中和鍍層中的分散性均有了很大提高。通過沉降實驗研究了碳納米管的分散性,結(jié)果表明分散劑16Y為最佳分散劑。
(2)通過單因素實驗研究了碳納米管濃度、電流密度、攪拌速率、pH、溫度、分散劑濃度和時間對鎳-碳納米管復(fù)合鍍層厚度和碳納米管含量的影響。在單因素實驗基礎(chǔ)上進(jìn)行正交實驗,經(jīng)正交優(yōu)化實驗得到了最佳工藝條件。在最佳工藝條件下所得到的鍍層致密,鍍層平均厚度
3、為47.23μm。SEM顯示碳納米管像網(wǎng)格狀分布在鍍層中,EDS能譜顯示復(fù)合鍍層由Ni,C,O三種元素組成其質(zhì)量分?jǐn)?shù)分別為83.35%、14.18%、1.96%,表明碳納米管和鎳實現(xiàn)了共沉積。
(3)通過SEM觀察發(fā)現(xiàn),與純鎳鍍層相比,鎳-碳納米管復(fù)合鍍層表面很粗糙,且碳納米管表面有鎳沉積。同時隨著鍍液中碳納米管含量由1g/L增加到4g/L,所得到的復(fù)合鍍層中C元素的重量百分比由10.49%增加到14.18%。鍍層的XRD結(jié)果
4、表明,復(fù)合鍍層的晶粒尺寸比純鎳鍍層小。結(jié)合力測試表明,復(fù)合鍍層的結(jié)合力良好。不同腐蝕介質(zhì)中的Tafel曲線表明,復(fù)合鍍層的耐腐蝕優(yōu)于純鎳鍍層。鍍層的電催化實驗表明,隨著鍍液中碳納米管濃度由0g/L的增加到4g/L時,其交換電流密度由6.58×10-8A/cm2增加到3.89×10-7A/cm2,電催化析氫能力加強。
(4)采用電化學(xué)工作站研究了Ni2+電沉積行為。循環(huán)伏安曲線表明隨著掃描速率的增加,鎳的沉積速率增加。陰極極化曲
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