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1、不銹鋼無(wú)鉻電解著色作為一種新的不銹鋼著色技術(shù),由于其裝飾性高,環(huán)保低毒備受人們青睞。但無(wú)鉻電解著色膜的耐蝕性、耐磨性低,難以滿足實(shí)際使用要求。為了提高無(wú)鉻電解著色膜的性能,本文就電解拋光、電解活化、固膜封閉處理等堅(jiān)膜工藝進(jìn)行了系統(tǒng)研究,獲得了與鉬酸鹽無(wú)鉻電解著色體系配套的前后處理的堅(jiān)膜工藝。進(jìn)行的研究和取得的實(shí)驗(yàn)結(jié)果如下:
1.傳統(tǒng)電解拋光體系中由于鉻酐對(duì)環(huán)境和人體的污染及傷害導(dǎo)致其使用范圍受到限制。本文通過(guò)多因素探索實(shí)驗(yàn),運(yùn)
2、用電化學(xué)測(cè)試及掃描電鏡形態(tài)分析等手段,通過(guò)測(cè)量著色膜光澤度、耐蝕性、微觀形貌等性能指標(biāo),研究了磷酸-硫酸體系電解拋光效果,胺類(lèi)添加劑(UP)的作用。結(jié)果表明:電解拋光能提高著色膜的光澤度、耐蝕性、耐磨性;UP能有效防止不銹鋼在電解拋光過(guò)程中發(fā)生過(guò)腐蝕。
2.運(yùn)用電化學(xué)手段分析探討不銹鋼在電解活化液中的活化機(jī)理,并測(cè)量不銹鋼在電解活化液中的陽(yáng)極極化曲線,獲得電解活化的電流范圍。結(jié)果表明:電解活化過(guò)程中生成活化膜,活化膜的生長(zhǎng)分為
3、形核、生長(zhǎng)、成膜三個(gè)生長(zhǎng)階段。不銹鋼在小電流密度(0.067A/dm2)下電解活化效果最好。
3.在前述實(shí)驗(yàn)的基礎(chǔ)上,通過(guò)對(duì)無(wú)鉻電解著色膜的表面光澤度、耐蝕時(shí)間等參數(shù)的測(cè)量,對(duì)電解拋光、電解活化的體系分別進(jìn)行了四因素三水平的正交實(shí)驗(yàn)和單因素實(shí)驗(yàn),研究了電解拋光、電解活化對(duì)著色膜的改善作用,并獲得了各自最佳的工藝配方。
4.實(shí)驗(yàn)研究了不銹鋼基體表面狀態(tài)對(duì)電解著色膜的性能的影響,通過(guò)電化學(xué)手段測(cè)量著色膜的耐蝕性,結(jié)果表明
4、:不銹鋼亞面和機(jī)械拋光面都經(jīng)過(guò)電解拋光和電解活化后電解著色膜的光澤度、耐蝕性相近,研究獲得的前處理工藝對(duì)基材表面的適應(yīng)性強(qiáng)。
5.采用電化學(xué)方法和耐摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)檢測(cè)了5種固膜方法:沸水固膜、硅酸鈉固膜、重鉻酸鉀固膜、鎳封閉劑固膜、及硅溶膠固膜對(duì)電解著色膜的固膜效果。硅溶膠固膜后表面形成一層透明的有機(jī)薄膜覆蓋在著色膜,固膜效果最好,不影響著色膜原本色彩,且硅溶膠工藝較成熟,制備簡(jiǎn)單,環(huán)保低毒。其他四種方法固膜效果較硅溶膠差。<
5、br> 6.應(yīng)用SEM和XPS對(duì)無(wú)鉻電解著色膜和含鉻電解著色膜的形貌和物相進(jìn)行了分析。兩者表面均存在裂紋,含鉻電解著色膜裂紋較深,膜層厚度為15~20μm,著色膜含有O、Cr、Fe及少量的Ni,Cr以六價(jià)和三價(jià)形式存在,F(xiàn)e以二價(jià)和三價(jià)形式存在,其中六價(jià)Cr具有自修復(fù)性,能提高膜的耐蝕性。無(wú)鉻電解著色膜厚度2~3μm,著色膜主要含有O、Mo及少量的Fe,其中Mo以六價(jià)形式存在,但膜層的裂紋較淺較少且更致密,因此通過(guò)前處理、后處理固膜工
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