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文檔簡介
1、功率絕緣體上硅橫向絕緣柵雙極型晶體管(SOI-LIGBT)具有高耐壓、高輸入阻抗、低導(dǎo)通電阻及全介質(zhì)隔離等諸多優(yōu)點,已逐步成為提高功率集成芯片性能的核心器件。然而功率集成芯片應(yīng)用系統(tǒng)往往需要SOI-LIGBT器件工作在高壓大電流輸出、強靜電泄放、高開關(guān)頻率以及感性負(fù)載等環(huán)境下,因此,很有必要研究SOI-LIGBT器件在瞬態(tài)電應(yīng)力沖擊下的可靠性。
本文基于Sentaurus TCAD仿真平臺、微光顯微鏡及傳輸線脈沖TLP(Tra
2、nsmission Line Pulse)等測試系統(tǒng),首先研究了SOI-LIGBT器件在靜電泄放ESD(Electro-Static Discharge)瞬態(tài)沖擊應(yīng)力下的響應(yīng)特性,并且分析了不同結(jié)構(gòu)參數(shù)對器件ESD能力的影響及其原因,接著研究了SOI-LIGBT器件在ESD瞬態(tài)沖擊下的退化現(xiàn)象,并建立了ESD瞬態(tài)沖擊響應(yīng)的行為模型。隨后,研究了器件在dv/dt瞬態(tài)沖擊應(yīng)力下的失效機理,同樣分析了結(jié)構(gòu)參數(shù)對器件dv/dt能力的影響及其影響
3、機制,進(jìn)而揭示了器件在dv/dt瞬態(tài)應(yīng)力下的退化機理。最后,本文還基于以上研究成果設(shè)計了兩種高瞬態(tài)沖擊可靠性的功率SOI-LIGBT器件。
研究結(jié)果顯示,本文建立的SOI-LIGBT器件的ESD響應(yīng)行為模型誤差小于12.1%,設(shè)計的加P阱高ESD魯棒性的功率SOI-LIGBT器件的二次崩潰電流(It2)增大4.3%;設(shè)計的Trench中填充poly硅的新型功率SOI-LIGBT器件,可以在不影響常規(guī)電學(xué)性能的前提下,有效的抑制
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