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文檔簡介
1、金屬離子印跡技術是近年來的熱點研究之一,制得與目標金屬離子相對應的三維孔結構的印跡材料對金屬離子具有專一性吸附效果,在萃取、富集、吸附金屬離子方面具有廣泛的應用價值。
本文以離子印跡技術為研究背景,采用對叔丁基杯[4]芳烴乙酸衍生物作為功能單體,Li+作為印跡模板離子,鈦酸四丁酯為交聯(lián)劑,HCl溶液為洗脫劑,無水乙醇做溶劑,運用本體聚合的方法制備杯[4]芳烴鋰離子印跡聚合物。實驗考察了合成功能單體單體對叔丁基杯[4]芳烴乙酸各
2、投料摩爾比、反應溫度和反應時間等因素影響和最佳制備條件。通過單一變量法動態(tài)吸附試驗考察印跡聚合物(LiIPs)和非印跡聚合物(nLiIPs)對Li+穿透吸附曲線、平衡吸附容量和pH值、流速、填充柱高度等因素,以及重復使用性以及選擇性等。并用傅里葉紅外光譜儀和電子掃描顯微鏡對聚合材料進行表征。運用在海水提鋰的吸附實驗,對比LiIPs和nLiIPs在海水和人工配制的競爭離子情況下,對該印跡聚合物吸附性能的影響,確定其影響因素,獲得最佳條件下
3、對Li+的動態(tài)吸附模型。
通過釷試劑紫外分光光度計法測定溶液中Li+的吸光度換算成濃度后獲得對鋰的動態(tài)吸附效果。在進液Li+初始濃度C0=500 mg·L-1、流速v=1.0mL·min-1、pH為6和吸附柱高度h=5.0 mm時,LiIPs對Li+的平均吸附容量達到14.90 mg/g。以Yoon-Nelson模型計算得到相應模型參數(shù):t=24.7 min,kYN=0.108min-1和q0-YN=16.87 mg·g-1,
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