多通道濾光片制備中的光吸收器及Lift-Off光刻工藝研究.pdf

1、在現(xiàn)代光學(xué)信息技術(shù)中，多通道濾光片在遙感探測(cè)、彩色顯示、圖像采集等方面有著廣泛的應(yīng)用。在這些應(yīng)用中常常需要小型化、集成化的多通道濾光片，而基于金屬掩膜法或拼接法的傳統(tǒng)工藝難以制作這類濾光片。因此如何制作高精度的多通道濾光片成為一個(gè)亟待解決的問(wèn)題。本文圍繞著多通道濾光片中的關(guān)鍵技術(shù)展開(kāi)，主要研究?jī)?nèi)容包括:
　　金屬-介質(zhì)光吸收膜的設(shè)計(jì)與制備。光吸收鍍膜在雜散光抑制、紅外光熱探測(cè)、太陽(yáng)能光熱轉(zhuǎn)換等方向有著廣泛的應(yīng)用。本文基于金屬-介質(zhì)

2、結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)了可見(jiàn)光波段的光吸收膜，采用單純形算法和模擬退火算法合成并優(yōu)化膜系結(jié)構(gòu)。此外還基于蒙特卡諾法進(jìn)一步分析了膜系中各層鍍制誤差對(duì)膜系性能的影響。實(shí)際制備得到的Cr/SiO2結(jié)構(gòu)光吸收膜平均反射率為2.14％，可以滿足實(shí)際使用需求。
　　厚膠光刻技術(shù)的工藝實(shí)驗(yàn)研究。復(fù)雜膜系和紅外膜系的膜層厚度常常達(dá)到幾十微米以上，如果采用光刻工藝制作，則要求相應(yīng)的光刻膠厚度在100μm以上。而現(xiàn)有的用于制作多通道濾光片的Lift-Off光刻技術(shù)

3、制作的光刻膠圖案厚度在10μm以下，不能滿足上述要求。本文采用雙層涂膠法制備了厚度200μm左右的超厚光刻圖案，可以滿足復(fù)雜膜系或紅外膜系多通道濾光片的制作需求。
　　光刻技術(shù)的參數(shù)優(yōu)化實(shí)驗(yàn)。本文采用NR21-20000P和NR9-8000光刻膠作為研究對(duì)象，詳細(xì)研究了各工藝參數(shù)對(duì)光刻膠圖形側(cè)壁形貌質(zhì)量的影響，測(cè)定了光刻膠的顯影速率、透過(guò)率等參數(shù)隨工藝條件的變化情況，最后通過(guò)正交實(shí)驗(yàn)確定了組合優(yōu)化實(shí)驗(yàn)參數(shù)。通過(guò)Lift-Off工藝