基于光敏材料的多通道濾光片研究.pdf

1、現(xiàn)有的多通道濾光片制備方法存在工藝繁瑣、成品率低等缺陷。隨著光電技術(shù)的發(fā)展，采用光敏材料制備集成光學器件的方法取得了很大進步，將光敏材料的應(yīng)用引入傳統(tǒng)光學薄膜領(lǐng)域，可以對已沉積的濾光片進行曝光修正、制作圖形化濾光片。
　　 本論文將現(xiàn)有的光學薄膜技術(shù)和光敏材料相結(jié)合，探索一種制備多通道干涉濾光片的新方法和與工藝，以克服傳統(tǒng)方法的不足。本論文完成的工作有以下幾方面：
　　 1)以硅氧烷MTPS水解聚合物為基礎(chǔ)，采用溶膠凝膠

2、法摻雜光引發(fā)劑BDK合成了有機無機復(fù)合材料。這種材料薄膜的折射率與物理厚度在紫外曝光下顯著增加，在摻雜50％的條件下曝光60 min光學厚度改變量達到60％。而且易于成膜，表面均勻，對可見光波段不敏感，抗日光老化，在可見波段損耗小，可以作為干涉濾光片的間隔層。對材料的分析表明光敏機理源自于光引發(fā)劑基團對無機結(jié)構(gòu)的修飾和聚合作用。
　　 2)探索出了適合該材料的薄膜制備方法，包括基底處理、勻膠旋轉(zhuǎn)速度和時間、成膜后處理、高溫熱處理

3、溫度和退火等工藝因素。使用光敏材料制備單層薄膜，對薄膜的光學參數(shù)和紫外曝光下參數(shù)的變化特性進行了測定。60 min的分時曝光測量表明紫外曝光使薄膜折射率由1.558增加到了1.592，物理厚度由288nm增加到422 nm。
　　 3)設(shè)計和制作了具有10μm到100μm不同尺度圖案的掩模，對薄膜進行圖案化曝光，良好重現(xiàn)了掩模圖樣。設(shè)計并制備了法布里-珀羅結(jié)構(gòu)的透射型光學濾光片，對七個通道進行不同時長的曝光得到了中心位于550