丙烯酸酯光固定化動力學(xué)及PCB用光致抗蝕劑的研究.pdf

1、本文利用光量熱差示掃描量熱儀UV-DSC對丙烯酸酯光固化動力學(xué)進行了研究，分別考察了光引發(fā)劑、齊聚物、活性單體、填料SiO2以及溫度、光強、時間、氧阻聚等因素對紫外光固化過程的影響?；趯夤袒瘎恿W(xué)的了解，配制出PCB電路板用光致抗蝕劑，考察了光至抗蝕劑在鋁箔上的附著力的影響因素，并對抗蝕劑的耐酸耐堿刻蝕效果進行了評價，得到以下結(jié)論:
　　一、通過比較光固化達到最大固化速率的時間，光固化速率增加最快時的時間以及光固化誘導(dǎo)期的差異

2、可以評價光固化反應(yīng)的快慢。
　　二、填料SiO2對不同的齊聚物體系光固化的影響有差異。SiO2對環(huán)氧丙烯酸酯體系光固化速率以及轉(zhuǎn)化率的影響要大于對聚氨酯丙烯酸酯體系光固化的影響，這與齊聚物分子鏈的結(jié)構(gòu)的剛?cè)嵝杂嘘P(guān)。
　　三、單體中引入乙氧基能減小光固化過程中的氧阻聚作用，光固化過程氧阻聚的大小與單體中α-H的數(shù)量以及單體的黏度有關(guān)。
　　四、得到了脂肪族聚氨酯丙烯酸酯CN8004體系的光固化動力學(xué)模型為R=[k1+k2

3、(1-C)m]Cn。
　　五、陽離子體系的光致抗蝕劑在鋁基上的鋪展較自由基體系差，在鋁基上印制的圖案穩(wěn)定性差。分子鏈柔性的齊聚物有利于光固化抗蝕劑在鋁基附著力的提高。單官能單體相對于多官能單體能賦予光固化抗蝕劑在鋁基上更好的附著力。光致抗蝕劑在酸或堿性刻蝕液中的抗蝕能力與其在鋁基上的附著力有關(guān)，一般附著力越好抗蝕能力越好，刻蝕出來的鋁線邊緣越平整。本研究中當(dāng)齊聚物為6215-100，單體為甲基丙烯酸甲酯(MMA)的光致抗蝕劑在酸性