鎳銅合金納米線的電化學(xué)調(diào)控及磁性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、合金納米材料有許多單質(zhì)金屬納米材料無法比擬的優(yōu)異性能，目前受到了研究人員的高度重視。本篇文章使用VERSASTAT3電化學(xué)工作站在氧化鋁模板中制備Ni-Cu合金納米線，用X-射線衍射儀(XRD)測量其晶體結(jié)構(gòu)，用掃描電子顯微鏡(SEM)和原子力顯微鏡(AFM)觀測其形貌，用電子能譜儀(EDS)測量納米線的成分，用振動樣品磁強(qiáng)計(VSM)測量其磁化行為。
　　 通過分析沉積過程中得到的電化學(xué)沉積C-T曲線，發(fā)現(xiàn)其具有明顯的隨時間不

2、變性，說明在沉積Ni-Cu合金納米線的電極過程控制步驟不是由液相傳質(zhì)過程控制，而是由電化學(xué)氧化還原過程控制。我們采用控制電位的方法，成功制備出Ni3Cu20、Ni4Cu3、NiCu、Ni33Cu20、Ni13Cu2納米線，且發(fā)現(xiàn)沉積電壓在-0.86V時納米線的成分受電壓影響非常明顯。
　　 研究發(fā)現(xiàn)，當(dāng)NiSO4·6H2O：CuSO4·5H2O的質(zhì)量比大于8:1時，生長形成的是納米管，小于等于這一值時生長形成的是納米線。測量了N

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