鎳基電沉積聚8-羥基喹啉及其復合薄膜的工藝與性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文研究了鎳基體的一種電沉積防腐技術,通過循環(huán)伏安法、恒電位法使得8-羥基喹啉發(fā)生電聚合反應,在基體表面形成明亮、光滑的淺黃色薄膜,從而達到防腐效果。通過單因素實驗獲得各條件下的最優(yōu)工藝分別如下:使用循環(huán)伏安法沉積聚8-羥基喹啉的最優(yōu)條件為8-羥基喹啉濃度0.002mol/L,NaOH濃度0.4mol/L,掃描速度為30mv/s,掃描圈數為8圈;使用恒電位法沉積聚8-羥基喹啉的最優(yōu)條件為沉積電位0.5V,8-羥基喹啉濃度0.002mol

2、/L,NaOH濃度0.4mol/L,沉積時間為500s。進一步研究表明,在單體溶液中摻入苯酚,能夠提高薄膜的防腐效果,其最優(yōu)工藝條件分別如下:使用循環(huán)伏安法沉積聚苯酚和聚8-羥基喹啉的最優(yōu)條件為,濃度配比8-羥基喹啉:苯酚為1∶30,單體溶液濃度0.021mol/L,NaOH濃度0.8mol/L,掃描速度為100mv/s,掃描圈數為6圈;使用恒電位法沉積聚苯酚和聚8-羥基喹啉的最優(yōu)條件為沉積電位0.3V,8-羥基喹啉和苯酚的配比為3∶1

3、,單體溶液濃度0.020mol/L,NaOH濃度0.8mol/L,沉積時間為500s。
  鹽水周浸泡失重實驗、三氯化鐵縫隙實驗及Tafel極化曲線的結果一致,都表明同等條件下恒電位沉積方式優(yōu)于循環(huán)伏安法,聚苯酚和聚8-羥基喹啉復合薄膜的性能優(yōu)于聚8-羥基喹啉單聚,推算出復合物的分子式為(C9H5NO)m(C6H4O)n,m∶n=28。金相顯微鏡和掃描電鏡都表明,復合薄膜很好地覆蓋在工件表面,薄膜平整、均一。通過紅外光譜分析推導了

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