鋁合金微弧氧化厚膜工藝研究.pdf

1、本文系統(tǒng)介紹了鋁合金微弧氧化技術(shù)的概念、技術(shù)原理、影響因素、制備方法等研究進(jìn)展情況。微弧氧化工藝對環(huán)境無污染，陶瓷膜層與基體結(jié)合牢固、結(jié)構(gòu)致密，具有很好的耐磨性、耐腐蝕性、耐高溫沖擊和電絕緣性能，具有廣闊的應(yīng)用前景。
　　 本文采用直流脈沖微弧氧化電源設(shè)備，制備出不同電流密度下的微弧氧化陶瓷層，研究了試件表面生成的最大厚度的陶瓷膜的厚度隨電流密度的變化規(guī)律，并對膜層的微觀形貌、顯微硬度進(jìn)行了測試，綜合分析出膜層在最大厚度時最佳的

2、電流密度參數(shù)。采用自制的交流微弧氧化電源在不同的電解液配方下制備出微弧氧化試件，對試件表面生成的最大厚度的膜層進(jìn)行了厚度測試;然后對膜層的微觀形貌和顯微硬度進(jìn)行了測試，綜合分析選擇出最佳的溶液組分和濃度對陶瓷膜最大厚度的影響。
　　 實(shí)驗(yàn)最終制備出的微弧氧化陶瓷膜層厚度可達(dá)260μm，對應(yīng)2A12鋁合金的微弧氧化電解液最優(yōu)配方為:[Na2SiO3]6.0g·L-1，[KOH]1.0g·L-1;最佳電流密度參數(shù)為10A·dm-2。