鈦合金微弧氧化膜制備工藝及應(yīng)用研究.pdf

1、本文對Ti6Al4V合金在恒流模式下的微弧氧化工藝進行了探索性研究，研究了硅酸鹽和磷酸鹽混合電解液體系中，溶液配比、時間、電參數(shù)（如電流密度、占空比、頻率、）對Ti6Al4V表面所生成的薄膜厚度、形貌、相組成和膜與基體之間結(jié)合力等的影響規(guī)律。研究結(jié)果表明：鈦合金經(jīng)微弧氧化表面會原位生長出一層具備多孔結(jié)構(gòu)的二氧化鈦膜層。微弧氧化工藝參數(shù)對氧化膜的生長和組織結(jié)構(gòu)有顯著的影響，電流密度的增大，占空比的增加，氧化時間的延長，脈沖頻率的減小，微孔

2、數(shù)目減少，都會對促成微弧氧化膜膜厚的增加。XRD分析表明：TC4微弧氧化膜主要由銳鈦礦型 TiO2和金紅石型 TiO2組成。隨著電流密度的增大，占空比的增加，氧化時間的延長，脈沖頻率的減小，金紅石型TiO2的含量逐漸增加，且表面微孔尺寸增大，數(shù)目減小。劃痕試驗表明，膜層與基體間的結(jié)合力隨電流密度、占空比的增加而減小，隨脈沖頻率、氧化時間的增加而增大。
　　最后，本文對微弧氧化處理在鈦陽極的前處理的應(yīng)用作了一些嘗試，結(jié)果表明，在合適