版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、分類號(hào):密級(jí):UDC:學(xué)號(hào):355705210002南昌大學(xué)博士研究生學(xué)位論文含V形坑的形坑的Si襯底襯底GaN基藍(lán)光基藍(lán)光LED發(fā)光性能研究發(fā)光性能研究StudyontheLuminescencePropertiesofVpitcontainingGaNBasedBlueLEDsonSiSubstrates吳小明培養(yǎng)單位(院、系):南昌大學(xué)國(guó)家硅基LED工程技術(shù)研究中心指導(dǎo)教師姓名、職稱:江風(fēng)益教授指導(dǎo)教師姓名、職稱:劉軍林研究員申請(qǐng)
2、學(xué)位的學(xué)科門類:工學(xué)學(xué)科專業(yè)名稱:材料物理與化學(xué)論文答辯日期:2014年12月17日答辯委員會(huì)主席:評(píng)閱人:2014年12月日摘要II摘要InGaNLED中位錯(cuò)密度達(dá)1081010cm2卻具有很高的發(fā)光效率。對(duì)此學(xué)術(shù)界有兩種解釋:一種認(rèn)為載流子被限制在InGaN量子阱的富In局域態(tài)中,避免了非輻射復(fù)合;另一種認(rèn)為,量子阱生長(zhǎng)時(shí)在位錯(cuò)處形成V形坑,坑中側(cè)壁量子阱的禁帶寬度比平臺(tái)量子阱大數(shù)百meV,在位錯(cuò)周圍對(duì)載流子形成勢(shì)壘,避免載流子靠近
3、位錯(cuò)而被捕獲。這兩種理論均能在一定程度上解釋GaN基LED的發(fā)光行為。然而,局域態(tài)的解釋提出多年,卻未有對(duì)局域態(tài)實(shí)現(xiàn)調(diào)控的報(bào)道;相比之下,V形坑則具有更強(qiáng)的可控性。雖然文獻(xiàn)提出V形坑的形成可抑制非輻射復(fù)合,但V形坑對(duì)器件光電性能影響的研究卻并不透徹。在此背景下,本文在Si襯底上生長(zhǎng)了GaN基藍(lán)光LED外延材料,結(jié)構(gòu)依次為:緩沖層、N型GaN層、準(zhǔn)備層(含低溫GaN層、超晶格層、電子注入層)、多量子阱、PAlGaN、V形坑合并層和PGaN
4、接觸層,選擇V形坑作為主要研究對(duì)象,所做的工作以及取得的研究成果包括:1.研究了Si襯底GaN中V形坑的產(chǎn)生和合并。(1)對(duì)V形坑的產(chǎn)生:實(shí)驗(yàn)表明在高溫N層GaN后生長(zhǎng)一層低溫GaN可產(chǎn)生V形坑,且V形坑尺寸隨該層厚度的增加而變大;同溫同厚度時(shí),In0.02Ga0.98NGaN超晶格比單層低溫GaN所形成的V形坑尺寸要??;AFM測(cè)得的V形坑密度,約為基于高分辨XRD搖擺曲線所計(jì)算的位錯(cuò)密度的一半。(2)對(duì)V形坑的合并:實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,升高
5、生長(zhǎng)溫度、減慢生長(zhǎng)速率以及H2氣氛下有利于V形坑的合并。2.發(fā)現(xiàn)并解釋了V形坑側(cè)壁量子阱的電致發(fā)光(EL)現(xiàn)象。在含有V形坑的器件結(jié)構(gòu)中,設(shè)計(jì)了低溫生長(zhǎng)的AlGaN電子阻擋層(EBL)重?fù)組g和不摻Mg的對(duì)比實(shí)驗(yàn),對(duì)樣品進(jìn)行了二次離子質(zhì)譜(SIMS)、透射電子顯微鏡(TEM)以及變溫變電流EL測(cè)試。(1)側(cè)壁量子阱EL的產(chǎn)生:EBL不摻Mg樣品中的低溫(≤150K)EL光譜中在主峰的短波長(zhǎng)側(cè)出現(xiàn)一寬發(fā)光峰,峰形同已報(bào)道的側(cè)壁量子阱的PL
6、結(jié)果相符。根據(jù)TEM測(cè)試,低溫AlGaNEBL在V形坑側(cè)壁比c面薄。據(jù)此提出EBL不摻Mg增加了流經(jīng)V形坑的空穴電流比例,將該發(fā)光峰歸結(jié)為V形坑側(cè)壁量子阱的EL峰。據(jù)作者所知,這是對(duì)側(cè)壁量子阱EL的首次報(bào)道。(2)側(cè)壁量子阱EL峰形的展寬:在小電流密度段側(cè)壁量子阱EL峰形隨著電流密度的增大逐漸向短波長(zhǎng)展寬,當(dāng)電流密度增大至一定值時(shí)達(dá)到穩(wěn)定。針對(duì)這一現(xiàn)象,提出了器件的等效電路模型,結(jié)合文獻(xiàn)報(bào)道的V形坑中側(cè)壁量子阱禁帶寬度不一致這一特性,提
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- Si襯底GaN基藍(lán)光LED器件性能研究.pdf
- Si襯底GaN基同側(cè)結(jié)構(gòu)藍(lán)光LED電致發(fā)光特性研究.pdf
- Si襯底GaN基藍(lán)光LED芯片出光效率的研究.pdf
- Si襯底GaN基功率型LED芯片性能研究.pdf
- 硅襯底GaN基藍(lán)光LED可靠性研究.pdf
- Si襯底GaN基電鍍金屬基板LED性能研究.pdf
- SiC襯底GaN基藍(lán)光LED的可制造性設(shè)計(jì).pdf
- 硅襯底氮化鎵基藍(lán)光LED發(fā)光特性研究.pdf
- 硅襯底GaN基藍(lán)光LED材料生長(zhǎng)及器件研制.pdf
- 硅襯底GaN基綠光LED光電性能研究.pdf
- GaN基藍(lán)光LED的研制.pdf
- Si襯底GaN基LED薄膜轉(zhuǎn)移電鍍金屬基板研究.pdf
- GaN基LED納米圖形襯底的研究.pdf
- GaN基藍(lán)光LED的光學(xué)特性研究.pdf
- 襯底切偏角和p型歐姆接觸對(duì)Si襯底GaN基LED性能穩(wěn)定性的影響.pdf
- GaN基藍(lán)光LED外延結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì).pdf
- 硅襯底GaN基LED轉(zhuǎn)移前后相關(guān)性能研究.pdf
- 自由支撐GaN基LED薄膜發(fā)光性能的研究.pdf
- 不同轉(zhuǎn)移工藝制備的垂直結(jié)構(gòu)Si襯底GaN基LED光衰研究.pdf
- 硅襯底GaN基LED光電性能及可靠性研究.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論