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1、金屬薄膜橋電火工品相對(duì)于傳統(tǒng)金屬橋絲電火工品具有點(diǎn)火功率小、可靠性高、能大面積集成等優(yōu)點(diǎn)。但在實(shí)際應(yīng)用中,金屬薄膜橋的輸出能量較低,橋與火藥間少許的間隙可能導(dǎo)致不能成功發(fā)火。為進(jìn)一步提高金屬薄膜橋點(diǎn)火可靠性,本文采用磁控濺射法制備了不同調(diào)制周期的Al/NiO多層含能薄膜。通過掩膜工藝將Al/NiO多層薄膜集成到Cr薄膜橋上制成了(Al/NiO)n/Cr復(fù)合薄膜點(diǎn)火器,對(duì)點(diǎn)火器的點(diǎn)火性能做了系統(tǒng)的研究。具體內(nèi)容如下:
1、采用直
2、流磁控濺射法在Al2O3陶瓷基片上制備了不同厚度的單層Al薄膜和NiO薄膜。真空腔中殘余O2和空氣中的O2會(huì)造成Al薄膜部分氧化。NiO薄膜為多晶薄膜,電阻率為8.5Ωcm,薄膜中Ni和O原子比約為1:1。Al薄膜和NiO薄膜表面均會(huì)出現(xiàn)不同程度的孔洞,這主要是由薄膜島狀生長(zhǎng)機(jī)制及基片本身表面缺陷造成。
2、通過交替沉積Al薄膜和NiO薄膜制備了Al/NiO多層含能薄膜,多層膜總厚度為3μm,調(diào)制周期厚度分別為250 nm、5
3、00 nm、750 nm、1000 nm、1500 nm。不同周期厚度的 Al/N iO薄膜具有清晰的層狀結(jié)構(gòu),層與層間連接緊密。表層 Al薄膜由于空氣中 O2的氧化變得粗糙,顆粒間會(huì)出現(xiàn)不同程度的團(tuán)聚。當(dāng) Al/N iO薄膜周期厚度為250 nm時(shí),在未退火情況下,薄膜中存在少量金屬態(tài)Ni擴(kuò)散到薄膜表層,經(jīng)過不同溫度退火后,薄膜擴(kuò)散更加劇烈,隨著溫度升高薄膜層與層間原子擴(kuò)散更劇烈,反應(yīng)更完全。Al/NiO多層薄膜的熱導(dǎo)率隨界面數(shù)量的增
4、加而減小。周期厚度為250 nm的Al/NiO多層薄膜的放熱反應(yīng)過程分為固相-固相和固相-液相兩個(gè)過程,能量密度約為2440 J/g,為理論值的71.8%。
3、通過直流磁控濺射和濕法腐蝕工藝制備了Cr薄膜點(diǎn)火橋,點(diǎn)火橋橋區(qū)電阻為2Ω,在其表面集成不同周期厚度的Al/N iO多層膜制成的(Al/N iO)n/Cr點(diǎn)火器在充電電容為47μF,充電電壓為40 V下均能成功發(fā)火,當(dāng)多層膜周期厚度為1000 nm時(shí),點(diǎn)火時(shí)間短,火花高
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