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文檔簡介
1、薄膜制備技術在MEMS工藝設計中占有非常重要的位置。由于等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)沉積速度快，能對非平面形貌產(chǎn)生良好的覆蓋和填充，沉積溫度低，這些優(yōu)點使得目前市場上主要使用PECVD技術來沉積薄膜。但是發(fā)生在PECVD系統(tǒng)中的反應與作用非常復雜，不容易預測，因此實現(xiàn)該工藝的模擬對MEMS設計與制造有著重要意義。本文以PECVD為研究對象，建立了以元胞自動機為基礎的三維工藝仿真模型，應用遺傳算法對該模型進行優(yōu)化，并應用CUDA
2、并行計算技術實現(xiàn)仿真算法的并行加速。主要內(nèi)容如下:
首先，根據(jù)PECVD工藝模型，通過元胞自動機算法建立PECVD三維仿真模型，實現(xiàn)對PECVD工藝的仿真。
其次，由于三維仿真系統(tǒng)運行速度緩慢，本文將CUDA并行算法加入到三維仿真程序中，將串行程序變?yōu)椴⑿谐绦驅崿F(xiàn)了仿真系統(tǒng)的加速。
第三，為了使仿真程序結果與實驗結果接近，本文采用了遺傳算法來優(yōu)化仿真系統(tǒng)的參數(shù)。優(yōu)化系統(tǒng)將實驗測得的不同位置的薄膜厚度作為優(yōu)化
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