Ni基復(fù)合鍍層的制備工藝及其性能研究.pdf

1、脈沖電沉積由于其生產(chǎn)效率高，鍍層結(jié)構(gòu)致密等優(yōu)點(diǎn)，受到越來(lái)越廣泛的關(guān)注。本文通過(guò)脈沖電沉積方法制備Ni-TiC復(fù)合鍍層，研究了鍍液中TiC顆粒的濃度和占空比與復(fù)合鍍層性能之間的關(guān)系，確定了鍍液中TiC顆粒的最佳濃度，利用掃描電鏡(SEM)、能譜儀(EDS)、光學(xué)顯微鏡和X-ray衍射儀(XRD)等手段對(duì)復(fù)合鍍層的顯微形貌、成分組成和相結(jié)構(gòu)進(jìn)行觀察和分析。結(jié)果表明，TiC顆粒彌散分布于Ni基質(zhì)中，鍍層與基體界面清晰，界面處無(wú)孔隙、裂紋等缺陷

2、。施鍍2h厚度約為217μm，復(fù)合鍍層平整均勻，鍍態(tài)下復(fù)合鍍層的基質(zhì)鎳相為晶態(tài)結(jié)構(gòu)。其他工藝條件一定，當(dāng)鍍液中TiC顆粒濃度為32g/L時(shí)，鍍層中顆粒體積分?jǐn)?shù)達(dá)到最大，為23.9vo l.％，鍍層硬度、耐蝕性、耐磨性均達(dá)到最優(yōu)值。當(dāng)鍍液中TiC顆粒濃度為32g/L，占空比為10%時(shí)，復(fù)合鍍層鎳晶粒粒徑最小；當(dāng)占空比為50%時(shí)，鍍層硬度、耐蝕性、耐磨性最佳。
　　納米復(fù)合鍍層由于具有優(yōu)異的物理及力學(xué)性能而受到廣泛的研究與關(guān)注。為充分