SMR-FBAR布拉格反射柵復合薄膜結構的制備及器件熱性能研究.pdf

1、伴隨通信技術的發(fā)展,人們通信技術要求的逐漸提高,為了獲得更加舒適的生活和更加便利的通信方式,需要使得通信濾波器有較小的尺寸,更高的運行速度,更大的帶寬和更為經濟的使用成本,體聲波諧振器作為一種全新的濾波器形式件是滿足人們需求的最佳選擇。其應范圍從通信領域逐漸擴大到了傳感器件領域,但目前的研究主要集中于器件本身的性能和擴大其應用范圍,對材料的熱穩(wěn)定性及器件在使用中的熱性能研究還有所不足。
　　針對上面的問題,本文采用磁控濺射技術和有

2、限元方法對體聲波諧振器的的熱性能進行了研究,使用磁控濺射技術制備了氧化硅、非晶碳和鎢薄膜,其中氧化硅作為低聲阻抗材料使用,非晶碳和鎢作為高聲阻抗材料使用。文中研究了溫度、功率和氣壓等實驗參數(shù)對薄膜性能的影響,使用有限元方法結合實驗所測得的實驗結果對體聲波諧振器的熱性能和熱應力水平進行了相應的分析,對所用的材料進行相應的評定。
　　GIXRD研究表明使用磁控濺射制備出的氧化硅和非晶碳薄膜都呈現(xiàn)非晶態(tài)結構,溫度對薄膜晶態(tài)結構沒有影響。

3、在較低功率下制備的鎢薄膜為穩(wěn)態(tài)結構,在較高溫度下制備的薄膜為穩(wěn)態(tài)和亞穩(wěn)態(tài)結構的混合體,在有限的溫度變化條件下沒有改變薄膜的晶態(tài)結構。XRR研究表明,在溫度逐漸上升的條件下,非晶碳薄膜的密度逐漸下降,氧化硅和金屬鎢薄膜的密度逐漸上升,同時納米壓痕研究表明,隨著溫度的上升,非晶碳薄膜的楊氏模量逐漸下降,氧化硅薄膜的楊氏模量逐漸上升而金屬鎢薄膜的楊氏模量出現(xiàn)先上升后下降的狀態(tài)。
　　文中使用了磁控濺射技術進行了氧化硅/非晶碳和氧化硅/鎢

4、多層薄膜結構的制備同時研究了多層薄膜結構的熱穩(wěn)定性,研究表明氧化硅/非晶碳在較低的溫度下有較好的聲阻抗比而隨著溫度的上升聲阻抗比逐漸下降,當達到300℃時就不能很好的反射波能量,對于氧化硅/鎢多層薄膜結構溫度穩(wěn)定性較好,在溫度小范圍上升時可以在一定程度上改善薄膜的聲阻抗比,提高器件的使用性能,現(xiàn)時多層薄膜結構也有較好的溫度穩(wěn)定性。
　　針對器件的熱性能文中使用有限元方法并結合實驗測試結構對器件的溫度和熱應力水平進行了研究,隨著Br