基于多孔氧化鋁的納米壓印模板制備.pdf

1、納米壓印技術是20世紀90年代中期由華裔科學家周郁教授提出的一種復制壓印印章表面納米尺度圖案的技術，有著工藝靈活，加工速度快，生產成本低，產量高等優(yōu)點，受到了各國工程師與科學家的廣泛關注。且每年都會有新的技術進展和研究突破，成為學術界的研究熱點。
　　 納米壓印技術可分為熱壓印，紫外壓印，微接觸壓印等，都需要壓印模板，本論文主要工作是基于多孔氧化鋁進行納米壓印模板的研究和制備，采用99.99％的純鋁進行二次陽極氧化，通過調節(jié)氧化

2、電壓，反應溫度，反應時間實現了孔徑可控的多孔氧化鋁的模板，孔徑50~80nm，孔距100~135nm，并用此模板進行納米壓印，得到結構規(guī)整的納米柱，柱直徑約80nm，柱之間距離130nm，基本符合多孔氧化鋁模板的圖案，在對于2英寸的多孔氧化鋁模板進行納米壓印會出現部分孔洞圖案無法進行壓印轉移的現象，納米柱高度有浮動，表面平整度不理想，因此提出一種新的納米壓印模板制備方法，在硅片上鍍鋁然后進行二次陽極氧化，得到孔徑100nm，孔距144n

3、m的多孔結構圖案，由于在硅片上鍍鋁進行的二次陽極氧化，孔洞的表面平整度得到了很好的解決，通過對此模板進行納米壓印得到的掃描電鏡圖片進行分析，發(fā)現得到的納米柱高低一致，有很好的規(guī)整性和平整度，同時會有部分區(qū)域的圖案有脫膠的現象。
　　 實驗結果顯示，利用多孔氧化鋁模板進行納米壓印，圖案可以較為完整的進行轉移，壓印出來的納米柱表面平整度好，規(guī)整性基本符合模板的孔洞排列，部分區(qū)域的圖案有脫膠現象，與模板孔洞的垂直型和納米壓印防粘工藝有