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文檔簡介
1、晶體硅太陽電池以其高效和無毒等特點一直在光伏市場占據(jù)主流地位。為了降低成本,硅吸收層設(shè)計厚度不斷降低。然而厚度降低的同時,也造成電池吸收效率降低,從而導致其轉(zhuǎn)換效率不高。采用陷光結(jié)構(gòu)來增強吸收效率是目前主流的技術(shù)之一。
本論文對現(xiàn)有的陷光結(jié)構(gòu)缺點進行了深入分析,提出了新型的多尺度陷光結(jié)構(gòu),結(jié)合了現(xiàn)有結(jié)構(gòu)的優(yōu)點,并對提出結(jié)構(gòu)進行了優(yōu)化設(shè)計,以及進行了初步的制備研究。主要內(nèi)容如下:
首先,優(yōu)化了一維多尺度陷光結(jié)構(gòu)的面型參
2、數(shù),該面型參數(shù)對應傅里葉級數(shù)的系數(shù)。優(yōu)化過后的短路電流密度相對單周期性結(jié)構(gòu)提升了62%,相對表面無序的陷光結(jié)構(gòu)提升了28%。同時該結(jié)構(gòu)有寬角譜吸收性質(zhì),當入射角在正負60度范圍內(nèi)變化的情況下,多尺度結(jié)構(gòu)的吸收率波動幅度不超過15%。
然后,針對該新型陷光結(jié)構(gòu)自主編寫了仿真程序,能夠?qū)崿F(xiàn)目前部分商業(yè)程序無法實現(xiàn)的復雜結(jié)構(gòu)。同時在程序中集成優(yōu)化算法,通過最短的搜索路徑找出吸收效率最好的結(jié)構(gòu)面型。在此基礎(chǔ)上,將該程序集成簡單用戶界面
3、,用戶無需編寫代碼,輸入結(jié)構(gòu)參數(shù)即可輸出陷光能力最優(yōu)的結(jié)構(gòu)面型。
進一步的,在一維結(jié)構(gòu)優(yōu)化結(jié)果的基礎(chǔ)上,構(gòu)建了二維多尺度陷光結(jié)構(gòu),二維結(jié)構(gòu)的陷光能力進一步提升,短路電流密度相對于一維結(jié)構(gòu)提升了14.7%,680nm-1100nm的吸收率曲線和理論吸收極限重合,同時在300nm-800nm波段,±60度入射角范圍內(nèi)吸收率大于0.75。
最后,對多尺度陷光結(jié)構(gòu)進行了初步制備研究。利用干涉光刻,通過優(yōu)化工藝實驗得到了最佳曝
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