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文檔簡(jiǎn)介
1、本文的研究目的是在不降低La2O3/Cu和C/Cu兩種彌散強(qiáng)化銅合金電導(dǎo)率前提下,提高銅合金的表面強(qiáng)度與耐磨性。采用單獨(dú)注入和氣體離子金屬離子復(fù)合注入的方式將N、Ag、Ni和Zr等幾種離子注入到銅合金中,利用XPS光電子譜對(duì)注入層中元素的深度分布,各深度處元素的化學(xué)態(tài)進(jìn)行分析,采用微載荷顯微硬度計(jì)測(cè)量了硬度,使用物理性能測(cè)試系統(tǒng)進(jìn)行了導(dǎo)電性測(cè)量,使用摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)研究了摩擦磨損特性。
研究結(jié)果表明,氮離子注入銅基體中不形成化合
2、物,在樣品近表面處造成大量的缺陷和位錯(cuò),其強(qiáng)化機(jī)制主要為位錯(cuò)強(qiáng)化。金屬離子在銅基體中呈高斯分布,注入層深由注入能量和注入離子決定。銀和鎳離子在銅基體中不形成化合物,以單質(zhì)形式存在。但是在鎳的注入層中發(fā)現(xiàn),由于注入離子的反沖作用,表面的鎳的氧化物在注入基體中形成一定深度的分布;鋯離子注入在基體中形成了CuZr和ZrO2析出相,析出相的數(shù)量與Zr離子的濃度分布有關(guān);金屬離子注入強(qiáng)化機(jī)制主要為固溶強(qiáng)化和析出強(qiáng)化。氮離子注入后注入金屬離子的復(fù)合
3、注入技術(shù),綜合了兩種注入技術(shù)的優(yōu)點(diǎn),離子注入層深度加深。不僅形成的析出相數(shù)量增加,而且形成新的析出相。
離子注入提高了銅合金的硬度和耐磨性。在摩擦磨損過(guò)程中,注入離子沿位錯(cuò)網(wǎng)格運(yùn)動(dòng)的“通道效應(yīng)”,進(jìn)一步提高了銅合金材料的耐磨性。氮離子和鋯離子復(fù)合注入效果最佳。
氮離子、鎳離子和鋯離子注入銅后,對(duì)電導(dǎo)率影響不大,隨注入劑量增加,電導(dǎo)率呈下降趨勢(shì);銀離子注入后,電導(dǎo)率略有提高。
綜合比較La2O3/Cu和C/C
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