BDD-Ti多孔復(fù)合膜制備關(guān)鍵技術(shù)研究.pdf

1、金剛石薄膜材料由于其優(yōu)異的物理和化學(xué)特性而被社會(huì)廣泛關(guān)注，特別是近些年，作為一種新型的電極材料，在有機(jī)廢水處理方面顯現(xiàn)出良好效果，有著其他工作電極無(wú)法比擬的優(yōu)點(diǎn)，如寬電勢(shì)窗口、高析氧電位、低背景電流等。
　　 金屬鈦板由于具有密度小、比強(qiáng)度高、工作溫度范圍寬、耐腐蝕性強(qiáng)等特性，做為基底來(lái)沉積摻硼金剛石薄膜成為一種新型電極越來(lái)越被人們所認(rèn)可。本文在此基礎(chǔ)上，以多孔鈦?zhàn)鳛榛祝脽峤z化學(xué)氣相沉積技術(shù)(HFCVD)制備摻硼金剛石薄膜

2、，形成了一種新型復(fù)合膜。
　　 制備過(guò)程中發(fā)現(xiàn)，由于基底的多孔特性以及粉末冶金燒結(jié)技術(shù)的原因，多孔基底本身存在較大的殘余張應(yīng)力，再?gòu)?fù)合以HFCVD薄膜制備中引入的殘余應(yīng)力，對(duì)膜基附著特性將產(chǎn)生很多不利影響，使薄膜和基底出現(xiàn)翹曲，降低金剛石薄膜承受載荷的能力，容易出現(xiàn)幾何尺寸的形變甚至碎裂;另一項(xiàng)顯著影響金剛石膜與多孔鈦附著特性的原因是疏松多孔結(jié)構(gòu)的碳化鈦過(guò)渡層的形成。本文針對(duì)基底殘余應(yīng)力和過(guò)渡層碳化鈦這兩項(xiàng)影響膜基附著特性的主要