SiO2-TiO2-基片減反膜系的制備研究.pdf

1、現(xiàn)代光學工程中,光學薄膜具有重要地位,可以說,沒有光學薄膜,就沒有當今許多復雜的、高性能的光學儀器、光電子器件以及各種光電系統(tǒng),減反射薄膜又是光學薄膜中最重要的一種。本論文在對減反射薄膜設計及優(yōu)化的基礎上重點研究了其制備工藝。以玻璃為基底進行減反射薄膜的膜系設計,并且對SiO2、TiO2單層膜的制備工藝進行了大量的實驗研究,確定了最佳工藝參數(shù)。
　　 論文首先介紹了減反射薄膜的應用,并結合其發(fā)展現(xiàn)狀對其未來發(fā)展方向進行展望。

2、r>　　 目前我國光學薄膜優(yōu)化設計工作還處于探索階段,光學薄膜的設計是薄膜技術發(fā)展的一個基礎環(huán)節(jié)。在減反射薄膜的設計中,作者從薄膜減反射原理和光學薄膜電磁場理論出發(fā),利用MATLAB得出減反射膜系的設計結果及反射率特性曲線。理論透過率在可見光波長范圍內可以達到99％以上,并根據(jù)優(yōu)化的理論膜系進行了樣品膜系的制備。根據(jù)優(yōu)化結果,選用折射率為1.52的玻璃為基底,并采用磁控濺射方法制備了SiO2／TiO2膜系,并分別研究了沉積工藝參數(shù)對單

3、層SiO2和TiO2薄膜光學性能的影響。
　　 在磁控濺射工藝研究時,分別分析了工作真空度、氧氣含量、退火溫度等工藝參數(shù)對薄膜的光學性能及結構的影響。分析結果表明氧氣含量對TiO2薄膜的折射率影響很大,制備TiO2薄膜的反應氣體和工作氣體O2／Ar比為1／5時,可制備出折射率符合設計要求的TiO2薄膜。另外工作真空度、退火溫度也都是薄膜光學性能的重要影響因素。
　　 最后,測量了單層SiO2和TiO2薄膜的折射率,用分光