鑄鐵表面鉻基Cr-MoS2復(fù)合電鍍的實驗研究.pdf

1、鍍鉻層具有硬度高、摩擦系數(shù)低、耐磨性好以及抗高溫氧化能力強等優(yōu)點，為了進(jìn)一步的提高鍍層的耐磨性能，本文研究采用復(fù)合電沉積方法，在鑄鐵表面制備Cr-MoS2復(fù)合鍍層，研究了各工藝參數(shù)對鍍層的制備及性能的影響。
　　 通過大量試驗，在常規(guī)鍍鉻工藝基礎(chǔ)上，探索出采用十六烷基三甲基溴化銨(CTAB)作為分散劑，陽極電流刻蝕以及電磁間歇攪拌等工藝技術(shù)，在鑄鐵基體上成功制備出Cr-MoS2復(fù)合鍍層。研究了陽極刻蝕時間，溫度，電流密度，攪拌強

2、度和方式等工藝參數(shù)對復(fù)合鍍層的影響。采用體視顯微鏡、掃描電子顯微鏡(SEM)、X射線衍射分析儀(XRD)等手段對鍍層的形貌及成分進(jìn)行了分析。使用QFZ型鍍層附著力試驗儀和MM-2P滑塊式摩擦磨損試驗機對復(fù)合鍍層Cr-MoS2的結(jié)合力和摩擦磨損性能進(jìn)行了比較研究。
　　 研究表明：在濃度為CrO3250g/L和H2SO42.5g/L的鉻電鍍液中，電流密度為45A/dm2，溫度為50-60℃，陽極面積：陰極面積＝2：1，施鍍1h得到

3、鉻層，再以電流密度22.5A/dm2，陽極（刻蝕）1.5min使鉻層表面形成裂紋，利于微粒MoS2的夾雜，最后在MoS2微粒粒濃度為15g/L、分散劑CTAB5g/L鍍液中進(jìn)行復(fù)合電鍍，溫度為40-50℃，磁力攪拌速度為130r/min，電流密度為15A/dm2，停止攪拌時電流密度為8A/dm2，間歇時間為10min的工藝條件下得到均勻、致密、與鑄鐵基底結(jié)合良好的Cr-MoS2復(fù)合鍍層。
　　 能譜分析證明MoS2微粒在復(fù)合鍍層