類富勒烯MoS-,2-的制備與MoS-,2-基復合薄膜的制備.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文采用噴霧干燥方法制備了無機類富勒烯結構的MoS2顆粒(IF-MoS2),同時利用磁控濺射方法制備了MoS2基系列薄膜,具體包括MoS2/WS2復合薄膜和Ni/MoS2/WS2復合薄膜,并對薄膜的組織結構、化學成分以及形貌進行了研究分析,同時還對薄膜的摩擦學性能進行了相關測試。 利用噴霧干燥化學方法制備了具有多重復合結構的IF-MoS2空心顆粒。MoS3作為前驅物在氫氣與氬氣氣氛下,在850°C下加熱脫硫,得到了無機類富勒烯結

2、構的MoS2顆粒。用XRD、SEM、TEM和HRTEM對制備得到的IF-MoS2進行表征,并結合IF-MoS2形貌和結構,分析和探討了IF-MoS2的形成過程和機理。 采用磁控濺射共濺射方法制備了MoS2/WS2復合潤滑薄膜,通過XRD、EDX、TEM和XPS對薄膜的成分和結構進行了分析,并采用UMT-2MT型微摩擦磨損試驗機在大氣(相對濕度RH=45%~50%)室溫(20~25 °C)環(huán)境下測試薄膜的摩擦磨損性能。結果表明:M

3、oS2/WS2復合薄膜結構致密,因而有較好抗氧化性。其磨損壽命、摩擦穩(wěn)定性和抗載荷能力比純MoS2磁控濺射薄膜都有顯著提高,而摩擦系數更低。 利用磁控濺射制備Ni/MoS2/WS2共濺射復合薄膜,采用X射線衍射儀、X射線能譜儀和高分辨透射電鏡對薄膜進行表征,并采用UMT-2MT型微摩擦磨損試驗機在大氣室溫環(huán)境下對薄膜進行摩擦磨損性能測試,結果表明:Ni/MoS2/WS2復合薄膜(002)基本面優(yōu)先取向生長,且磨損壽命、摩擦穩(wěn)定性

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