熔鹽法制備一維莫來石陶瓷材料的研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩115頁未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

1、在一定條件下,晶體沿著線性鏈方向生長的陶瓷材料被稱為一維陶瓷材料。一維材料在其他維度方向上生長受限,因此表現(xiàn)出不同于傳統(tǒng)材料的特殊性能。其中一維莫來石陶瓷由于其優(yōu)異的熱震性、抗蠕變性,以及高溫下室溫強(qiáng)度衰減小的特性,已經(jīng)應(yīng)用于晶須補(bǔ)強(qiáng)、涂層技術(shù)、過濾膜、高溫催化反應(yīng)器等方面。熔鹽法是一種濕法化學(xué)合成方法,其優(yōu)勢在于合成的粉體無團(tuán)聚、工藝簡單;與其他液相法相比,其合成出的一維晶體質(zhì)量更高。本文中,對采用熔鹽法合成一維莫來石陶瓷進(jìn)行了研究。

2、
   對前驅(qū)體的研究表明,采用化學(xué)活性高、溶解能力強(qiáng)的前驅(qū)體,有助于獲得獨(dú)立分散的一維莫來石晶體。以Al2(SO4)3、無定形SiO2、Na2SO4為原料,其配比Al/Si/Na為2/1/8(原子比)時,在1000℃保溫3h條件下,HF酸洗后最終產(chǎn)物全部為一維莫來石晶體。XRD、EDS、HR-TEM結(jié)果表明所得的莫來石晶體為富Al組成,光致發(fā)光性能反映出富Al組成產(chǎn)生的氧空位缺陷。對溫度制度的研究表明,快速升溫有助于莫來石相的

3、生成;合成溫度過高,莫來石晶體會在1100℃左右發(fā)生分解形成NaAlSiO4。
   對莫來石晶體生長機(jī)理的研究表明。熔鹽法合成過程中,當(dāng)液相中不斷生成的莫來石超過其過飽和度時,莫來石開始成核。在液固生長界面處,莫來石單體的沉淀是可逆的,因此生長能夠按照其能量最低的原則不斷進(jìn)行調(diào)整,從而最大限度的保證其在c軸方向的自由生長。莫來石晶體在界面處的生長位置是由二維平臺提供的,這個過程所需克服的能量壁壘大,當(dāng)二維平臺耗盡時,晶體即停止

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論