版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內容提供方,若內容存在侵權,請進行舉報或認領
文檔簡介
1、由于傳統(tǒng)粉末光催化劑在使用過程中存在產生二次污染、分離與回收困難等問題,因而薄膜光催化劑逐漸成為一個新的研究熱點。玻璃由于價格便宜而且非常普通,在其表面涂上高光催化活性的ZnO薄膜將會使其在自潔凈玻璃等環(huán)保領域具有廣闊的使用前景。本文以高純金屬鋅、金屬鈦為靶材,氧氣為反應氣體,選用普通載玻片作為基底,采用直流磁控濺射法制備ZnO薄膜,并采用雙靶共濺射的方法制備不同復合量的ZnO-TiO2復合薄膜。借助掃描電子顯微鏡(SEM)和X射線衍射
2、(XRD)等儀器,系統(tǒng)研究了直流磁控濺射工藝參數(shù)對薄膜表面形貌與結構的影響;并對其光催化性能及親水性能進行了詳細的研究。
研究結果表明:采用直流磁控濺射法,在濺射功率為150W、工作氣壓為2.0Pa、沉積時間為60min、氧氣、氬氣流量都為40sccm、靶基距60mm的條件下,獲得的ZnO薄膜表面平整致密,質量最優(yōu)。并且ZnO薄膜經400℃退火后薄膜表面質量好,結晶程度高,C軸擇優(yōu)取向相對較好。
采用雙靶共濺
3、射的方法成功制備了ZnO-TiO2復合薄膜,XRD分析表明,經復合后薄膜的晶體結構發(fā)生了改變,并且在Ti靶的濺射功率為150W時,出現(xiàn)了TiO2銳鈦礦(101)面、(004)面和(112)面的衍射峰。
對Zno薄膜進行結合力測試顯示,ZnO薄膜的結合力約為21N。復合膜的結合力略有降低,約為17N。
光催化性和親水性的測定實驗表明,對于ZnO薄膜,經400℃退火的樣品對甲基橙的降解率高于其它溫度退火的樣品,且
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網頁內容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
- 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 磁控濺射法制備ZnO薄膜.pdf
- 磁控濺射法制備ZnO薄膜及特性研究.pdf
- 射頻磁控濺射法制備TiO-,2-,ZnO薄膜及性質研究.pdf
- 磁控濺射法制備ZnO薄膜及其特性研究.pdf
- 磁控濺射法制備ZnO薄膜與Al摻雜ZnO(AZO)薄膜及其性能研究.pdf
- ZnO薄膜和p型ZnO薄膜的磁控濺射法制備及其性質研究.pdf
- 磁控濺射法AlN-ZnO薄膜的制備及其表征.pdf
- 射頻磁控濺射法制備ZnO薄膜及其性能研究.pdf
- 磁控濺射法鍍制Cu和ZnO薄膜的研究.pdf
- 磁控濺射法制備ZnO透明導電薄膜組織與性能研究.pdf
- 用磁控濺射法制備的ZnO薄膜發(fā)光特性的研究.pdf
- 磁控濺射制備ZnO透明導電薄膜的研究.pdf
- 直流磁控濺射制備ZnO光電薄膜的研究.pdf
- 磁控濺射tio2(tio2zno)梯度復合薄膜的制備及光催化性能的研究
- 直流磁控濺射法制備ZnO氣敏薄膜及其性能研究.pdf
- 磁控濺射法制備氮摻雜ZnO薄膜及其光學特性研究.pdf
- 磁控濺射制備TiAlN和ZnO薄膜的研究.pdf
- 直流反應磁控濺射法制備Na摻雜p型ZnO薄膜.pdf
- 磁控濺射TiO2-(TiO2-ZnO)梯度復合薄膜的制備及光催化性能的研究.pdf
- 磁控濺射法制備柔性ZnO-Al薄膜及其光電性能研究.pdf
評論
0/150
提交評論