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文檔簡介
1、多晶ZnO薄膜是一種多功能寬帶隙氧化物半導(dǎo)體薄膜材料,它可以作為透明導(dǎo)電薄膜、壓電薄膜、光電子器件、氣敏和濕敏器件而具有廣泛的應(yīng)用前景.已經(jīng)引起了越來越多研究者的關(guān)注.該論文主要工作是多晶ZnO薄膜的制備和光學(xué)特性研究.采用射頻反應(yīng)測射法,以高純度O<,2>和Ar作為濺射工作氣體,成功地在n型硅襯底上底制備得到了高質(zhì)量的多晶ZnO薄膜.系統(tǒng)地研究了沉積條件對多晶ZnO薄膜沉積速率的影響,分析了濺射功率、氣壓、靶間距對ZnO薄膜沉積速率的
2、影響.采用XRD、SEM對薄膜的結(jié)構(gòu)進行了表征.XRD測試表明,所制備的薄膜具有高度的(002)取向性;SEM測試表明,制備的薄膜致密、均勻.研究了源氣體中氬氣和氧氣的流量比、后處理溫度對薄膜發(fā)光譜的影響.結(jié)果證實,由激子復(fù)合形成的紫發(fā)光峰與薄膜的結(jié)晶狀態(tài)密切相關(guān),加熱后處理能改變薄膜的結(jié)晶度,從而會增強紫峰發(fā)射.可見光波段的藍光峰和綠發(fā)光峰則與薄膜中的氧和鋅缺陷有關(guān),通過制備時氧氣流量的變化,以及在缺氧和富氧環(huán)境下的后處理可以調(diào)節(jié)這些
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