TiO-,2-薄膜的制備及其抗凝血性能的研究.pdf

1、TiO<,2>薄膜具有高的化學(xué)穩(wěn)定性、優(yōu)異的光學(xué)性能、光催化性能、高介電常數(shù)、良好的抗凝血性能、高的機械強度,使其在材料涂層、光學(xué)薄膜、環(huán)境保護等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用前景.而目前對于抗凝血性的TiO<,2>薄膜的制備工藝參數(shù)的優(yōu)化與量化,以及對TiO<,2>薄膜的生長機理、性能的理論研究還有待于深入.本實驗是采用RF磁控濺射法在玻璃基片上制備TiO<,2>薄膜,并通過改變工藝參數(shù)著重探討影響薄膜表面性能的因素.其中,對其表面親水性能和抗凝

2、血性能進行了比較深入的研究.本論文中,對磁控濺射制備的TiO<,2>薄膜采用橢圓偏振光測厚儀測量薄膜的厚度及折射率;采用接觸角測定儀測量薄膜與水的表面接觸角來表征薄膜的親水性能;采用紫外-可見分光光度計測定薄膜的紫外可見吸收光譜;采用傅立葉變換紅外光譜儀檢測薄膜的紅外反射光譜;采用原子力顯微鏡觀察薄膜的表面形貌和測定表面粗糙度.而薄膜的抗凝血性能用動態(tài)凝血時間測定法表征.研究結(jié)果表明:在本實驗工藝參數(shù)范圍內(nèi),制得的TiO<,2>薄膜表面

3、光潔、致密均勻,薄膜表面與水的接觸角較大,具有較強的疏水性能.TiO<,2>薄膜的制備工藝參數(shù)如氧氬流量比(O<,2>/Ar)、基片溫度以及熱處理和紫外光照等后處理顯著影響薄膜表面形貌、光學(xué)性能和抗凝血性能.隨著O<,2>/Ar比的減小,薄膜的沉積速率和折射率增加,紫外吸收邊紅移.隨著基片溫度的增加,薄膜中渾圓狀的無定形顆粒向定向的柱狀晶粒轉(zhuǎn)變,紫外吸收邊紅移,表面粗糙度增加.而TiO<,2>薄膜表面通過紫外光照和熱處理可獲得超親水性.