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文檔簡介
1、通過將具有特殊化學、電化學、光學、電學及其他所需性能的分子單層或多層化學物質(zhì)薄膜以化學結(jié)合或涂覆在電極表面的方式構(gòu)成化學修飾電極(CMEs),并賦予其相應(yīng)的物理或化學特性?;瘜W修飾電極為電極體系提供了一個十分先進的研究手段,在包含電極表面化學的非均相電子轉(zhuǎn)移與化學活性之間的關(guān)系、電極表面的靜電現(xiàn)象以及高分子中電子與離子的傳輸現(xiàn)象等一系列廣譜的基礎(chǔ)電化學研究中具有重大實際效用。電化學器件及體系在化學檢測、能量的轉(zhuǎn)換與存儲、分子電子學、電致
2、變色顯示器、腐蝕防護及電有機合成等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。
本文中,我們采用電弧法(Arc Discharge)在石墨電極表面原位沉積類金剛石薄膜,采用化學氣相沉積法(CVD)分別在石墨和石英玻璃上原位制備鎳/碳核殼結(jié)構(gòu)修飾電極及類石墨烯薄膜電極,并研究了其電化學性能,具體內(nèi)容如下:
(1)利用電弧法在石墨電極表面原位沉積類金剛石薄膜,研究了在不同放電電流、放電時間下制得的類金剛石薄膜修飾電極在含有Fe(CN)63-/4
3、-的檢測溶液中電化學性能,并利用場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FESEM)對類金剛石薄膜的形貌進行表征。結(jié)果表明:在固定Ar氣氛(氣壓為1.0×104Pa)中,在電流為80A、放電時間為1.5min,可以制備出由微米量級粒徑構(gòu)成的、電化學性能良好的類金剛石薄膜修飾電極。
(2)采用恒電流電化學沉積法在石墨電極表面沉積金屬鎳薄膜,然后,利用化學氣相沉積法在電極表面原位制備鎳/碳核殼結(jié)構(gòu)修飾電極。利用光學顯微鏡對沉積在電極表面的金屬鎳的形
4、貌進行表征,利用X射線衍射(XRD)表征金屬鎳在熱處理前后晶體結(jié)構(gòu)變化。鎳/碳核殼結(jié)構(gòu)的表面形貌和電化學性能分別利用場發(fā)射掃描電子顯微鏡和三電極體系進行表征。結(jié)果表明:制備得到的鎳/碳核殼結(jié)構(gòu)的顆粒直徑均勻分布在250nm左右,且經(jīng)核殼結(jié)構(gòu)修飾的石墨電極具有良好的電化學性能。我們認為在恒溫生長階段,催化劑顆粒粒徑的大小影響碳材料的生長模式:粒徑較小的金屬鎳顆粒促進碳納米管形成,而在粒徑較大的金屬顆粒引導(dǎo)鎳-碳核殼結(jié)構(gòu)的形成。
5、(3)利用化學氣相沉積法,在不借助于任何金屬催化劑的情況下,直接在石英玻璃表面沉積類石墨烯薄膜。通過研究不同反應(yīng)溫度及氫氣流速對類石墨烯薄膜的電學性能的影響,確定在乙炔流速為5sccm、反應(yīng)時間為10min的條件下,反應(yīng)溫度為900℃、氫氣流速為50sccm時,制備得到具有良好導(dǎo)電性的類石墨烯薄膜。制備得到的類石墨烯薄膜分別利用紫外-可見光光度計(UV-vis Spectroscope)、X射線衍射、微區(qū)拉曼光譜儀(Raman Spec
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