無氰金鉍合鑫電鍍配方及工藝的研究.pdf

1、金鉍合金微靶是激光聚變(ICF)實驗中具有廣泛應用前景的靶材，近年來發(fā)展較為迅速的脈沖電鍍技術是制備Au-Bi合金靶有效的方法。采用亞硫酸鹽-酒石酸鹽鍍液體系與氰化物鍍液相比具有無毒性，較為環(huán)保，廢液的處理成本低等優(yōu)點而使其具有極大的應用價值。
　　 本文通過優(yōu)化篩選確定了制備Au-Bi合金微靶的鍍液。采用亞硫酸鹽-酒石酸鹽鍍液體系，通過調(diào)控鍍液的成分及脈沖參數(shù)有效的控制合金的組分（鉍含量控制在1.5％～9.5％Wt％）實現(xiàn)了金

2、、鉍的共沉積。并通過正交試驗與單因素實驗考察了對鍍膜質(zhì)量影響較大的因素，同時得到了制備合金的最佳配方及工藝參數(shù)：氯化鉍60g/L，金1.5g/L，酒石酸鉀鈉125g/L，氨水8.5mL/L，亞硫酸銨65mL/L，氯化鉀50g/L，檸檬酸鉀55g/L，十二烷基硫酸鈉O.02g/L，酒石酸銻鉀0.35g/L，頻率700Hz，平均電流密度0.55～0.85A/dm2，占空比1:7，溫度450C，極間距6cm。
　　 通過掃面電子顯微鏡