自穩(wěn)程雙光束探測干涉儀的設計.pdf

1、為了研究壓電薄膜的特性,常常需要測量電場作用下薄膜厚度的變化.因為薄膜的厚度很小,不能施加太高的電壓,過高的電壓會擊穿薄膜,所以一般在電壓驅動下其厚度的變化處于A的量級.為了檢測這么小的形變,必須使用干涉檢測的方法.Michelson干涉儀結構簡單,最早被用來檢測壓電薄膜厚度的變化.但是由于這種方法只探測樣品的一個表面,無法消除測量中的基底彎曲效應.所以,設計了一種基于Mach-Zender結構的雙光束探測干涉儀來研究壓電薄膜的壓電響應

2、.這種方法中,探測激光探測樣品的兩個主面,可有效消除基底彎曲效應.為了補償光程差的低頻漂移,將工作點穩(wěn)定在靈敏度最高點,使用一個反饋控制系統(tǒng)驅動微位移器調整參考平面鏡.使用鎖相放大器提供驅動信號,并同時檢測對應于樣品形變的輸出信號.計算機通過RS232接口與鎖相放大器通信,控制測量的全過程.開發(fā)了用于壓電材料的壓電系數(shù)測量和鐵電材料蝴蝶曲線測繪的軟件.所以,整個系統(tǒng)構成一個自動檢測系統(tǒng),其工作頻率范圍是1K~102KHz,最小可探測位移