MgF-,2-單晶的加工工藝研究.pdf_第1頁(yè)
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1、隨著我國(guó)工業(yè)化步伐的不斷加快，氟化鎂晶體在光學(xué)陶瓷及玻璃、紅外元件等高技術(shù)領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。氟化鎂晶體的光學(xué)性能主要依賴(lài)于它的表面質(zhì)量，只有晶體表面達(dá)到超光滑表面粗糙度時(shí)才能滿足它在生產(chǎn)上的需要?；瘜W(xué)機(jī)械拋光技術(shù)(CMP)在目前的加工工藝中使用較為廣泛，它是實(shí)現(xiàn)超光滑表面拋光的工藝過(guò)程，是化學(xué)拋光和機(jī)械拋光技術(shù)的結(jié)合。在本文中，我們將利用這一技術(shù)來(lái)對(duì)MgF2晶體進(jìn)行拋光，主要討論了在化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程中不同拋光液對(duì)拋光件質(zhì)量的影響，并

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