高能激光與光學(xué)介質(zhì)薄膜作用機理的研究.pdf

1、光學(xué)薄膜是激光器及其應(yīng)用系統(tǒng)的重要組成部分，但與其它元件相比，光學(xué)薄膜的抗激光損傷能力較差，這就限制了激光器及其應(yīng)用系統(tǒng)的進(jìn)一步發(fā)展。因此，研究激光與光學(xué)介質(zhì)薄膜相互作用的機理，提高光學(xué)介質(zhì)薄膜的抗激光損傷能力對于推動激光器的發(fā)展和激光技術(shù)的廣泛應(yīng)用具有重要的意義。
　　 高能激光與光學(xué)介質(zhì)薄膜相互作用的主要結(jié)果就是對光學(xué)薄膜造成損傷，損傷機制主要為熱致?lián)p傷，薄膜吸收激光能量后溫度升高，達(dá)到自身的熔點而發(fā)生損傷。本文建立了損傷的

2、理論模型，應(yīng)用計算機軟件進(jìn)行數(shù)值模擬，得出結(jié)論，隨著激光輻照時間的延續(xù)，薄膜中的溫度在不斷上升，薄膜表面距光斑中心處越近的位置，溫度升高越快，光斑中心處溫度升高最快。升溫過程持續(xù)到激光作用時間結(jié)束，然后開始降溫，薄膜表面距光斑中心處越近的位置，降溫越快，仍然是光斑中心處降溫最快。相應(yīng)的，薄膜損傷也是由溫度最高的光斑中心處開始，向四周延伸。
　　 損傷閾值是表征光學(xué)介質(zhì)薄膜性能優(yōu)良的重要標(biāo)準(zhǔn)，本文探討了光學(xué)介質(zhì)薄膜損傷閾值的測試方