高能激光與光學介質薄膜作用機理的研究.pdf

1、光學薄膜是激光器及其應用系統(tǒng)的重要組成部分，但與其它元件相比，光學薄膜的抗激光損傷能力較差，這就限制了激光器及其應用系統(tǒng)的進一步發(fā)展。因此，研究激光與光學介質薄膜相互作用的機理，提高光學介質薄膜的抗激光損傷能力對于推動激光器的發(fā)展和激光技術的廣泛應用具有重要的意義。
　　 高能激光與光學介質薄膜相互作用的主要結果就是對光學薄膜造成損傷，損傷機制主要為熱致?lián)p傷，薄膜吸收激光能量后溫度升高，達到自身的熔點而發(fā)生損傷。本文建立了損傷的

2、理論模型，應用計算機軟件進行數(shù)值模擬，得出結論，隨著激光輻照時間的延續(xù)，薄膜中的溫度在不斷上升，薄膜表面距光斑中心處越近的位置，溫度升高越快，光斑中心處溫度升高最快。升溫過程持續(xù)到激光作用時間結束，然后開始降溫，薄膜表面距光斑中心處越近的位置，降溫越快，仍然是光斑中心處降溫最快。相應的，薄膜損傷也是由溫度最高的光斑中心處開始，向四周延伸。
　　 損傷閾值是表征光學介質薄膜性能優(yōu)良的重要標準，本文探討了光學介質薄膜損傷閾值的測試方