介質(zhì)薄膜膜基體系力學(xué)光學(xué)特性研究.pdf_第1頁(yè)
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1、本文系統(tǒng)地分析了薄膜的形成過(guò)程、應(yīng)力模型和應(yīng)力對(duì)薄膜成核的影響，薄膜應(yīng)力和熱處理對(duì)介質(zhì)薄膜光譜的影響；總結(jié)了薄膜應(yīng)力的測(cè)量方法。通過(guò)理論分析和實(shí)驗(yàn)研究得出如下結(jié)論：應(yīng)力作用下，多層薄膜不均勻的膜厚變化是薄膜光譜退化的主要原因；基片的彎曲導(dǎo)致光線入射角度產(chǎn)生偏差，此角度偏差使波長(zhǎng)測(cè)量不準(zhǔn)，插損增加；熱處理可以使介質(zhì)薄膜應(yīng)力減小，在熱處理能量低于亞穩(wěn)態(tài)薄膜的激活能時(shí)只有熱應(yīng)力改變，波長(zhǎng)變化量與熱處理溫度成線性關(guān)系，熱處理能量較高時(shí)，熱應(yīng)力和

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