鋁硼硅酸鹽玻璃介電性能與光學堿度關系研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、玻璃纖維作為最主要的增強材料在印刷電路基板、雷達天線罩的制作中已被廣泛應用。當代電子科技正朝著微型化、高性能、高密度、多功能的方向發(fā)展,除要求相關的雷達罩體、基片、封裝等介質材料具有高熱導、高強度外,還要求有低的介電常數(shù)和低的介質損耗,從而加快信號傳遞的速度,減小串擾和降低能量損耗。因而,研究低介電玻璃纖維勢在必行。
   鋁硼硅酸鹽玻璃系統(tǒng)作為低介電玻璃纖維的基礎系統(tǒng),一直被國內外學者廣泛關注。本文選擇原始E玻璃系統(tǒng)為基礎,分

2、別研究SiO2、 B2O3、Al2O3對玻璃介電性能和失透溫度范圍的影響,從而確定基礎組成的配比范圍。根據(jù)前期試驗選擇因素水平即:SiO2:51.5%、53.5%、55.5%,Al2O3:12.5%、14.5%、15.5%; CaO:4.0%,7.0%,10.0%進行三因素三水平的正交試驗分析。最終得到的最優(yōu)配比為:SiO2:53.5%,Al2O3:14.5%; CaO:4.0%,即此配比的玻璃具有較低的介電常數(shù)和較低的介電損耗,熔制情

3、況較佳。
   本論文利用線性回歸模型確定了系統(tǒng)介電性能與實驗因素的關系,并對回歸方程進行了優(yōu)化。利用優(yōu)化的回歸方程對實驗結果進行了預測。并對預測精度、預測的適用條件等進行了分析。根據(jù)線性回歸原理,以玻璃的理論光學堿度(Λth)為自變量,相對介電常數(shù)(εr)為因變量,利用49組數(shù)據(jù)擬合出介電常數(shù)與光學堿度之間關系的線性回歸方程方程。一元線性回歸分析表明,玻璃介電常數(shù)和理論光學堿度值之間存在線性關系,相關系數(shù)為0.9245。以氧化

4、鎂替代氧化鈣,利用回歸方程對玻璃組分變化后介電常數(shù)的值進行預測,實驗結果與預測結果相近,從而證明了方程的正確性,并且從光學堿度的角度解釋了玻璃介電常數(shù)隨組成變化的規(guī)律。在一定范圍內可以根據(jù)氧化物的光學堿度值選擇用于制備低介電常數(shù)玻璃纖維的氧化物種類。
   通過紅外光譜、差熱分析等測試手段對TiO2取代部分CaO后玻璃的性能進行了研究,得出結論如下:隨TiO2含量的增加,玻璃相對介電常數(shù)隨之降低;紅外光譜表明:TiO2沒有取代C

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