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文檔簡介
1、本文基于帕邢定律,采用數(shù)值模擬的方法,研究了不同結(jié)構(gòu)PDP放電單元靜態(tài)和動態(tài)著火電壓的情況。所編制的計算軟件考慮到各種結(jié)構(gòu)的特點,具有一定的通用性。利用該軟件計算了表面放電結(jié)構(gòu)PDP(ACCPDP)和蔭罩式PDP(SMPDP)中,沿不同放電路徑著火電壓的分布情況,并研究了放電單元中單元高度、介質(zhì)層厚度和介電常數(shù)、熒光粉層厚度變化對于著火電壓的影響,模擬發(fā)現(xiàn),SMPDP的著火電壓低于ACCPDP,且上述結(jié)構(gòu)參數(shù)的變化對于SMPDP的影響均
2、接近或小于ACCPDP。本文還研究了尋址期ACCPDP中X電極偏壓和SMPDP中障壁電位對于放電的影響。模擬發(fā)現(xiàn),尋址期在ACCPDP的X電極加一定的正偏壓和在SMPDP的障壁上加低負壓,都能達到較好的壁電荷積累。 本文在理論計算的基礎(chǔ)上,基于氣體放電相似性定律,設(shè)計和制作了ACCPDP和SMPDP以及對向放電結(jié)構(gòu)的放大單元;建立了包括高速ICCD、濾色系統(tǒng)、數(shù)字時序控制電路、高壓驅(qū)動電路的PDP光發(fā)射測試系統(tǒng),利用實驗方法,對
3、PDP的某些放電特性進行研究。 本文拍攝了ACCPDP和矩陣對向放電單元(ACM)放電過程,并且研究了ACCPDP維持放電過程中,紅外譜線和640nm譜線的分布情況,上述結(jié)果與參考文獻中的結(jié)果基本一致,這為放大模型和測試系統(tǒng)的正確性提供了佐證。本文拍攝了ACCPDP尋址放電過程,并研究了不同Vx偏壓對于尋址放電的影響,放電過程中光發(fā)射分布間接證明了第三章模擬結(jié)果的正確性。本文還首次拍攝SMPDP放大單元和實際單元中放電過程,指出
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