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1、該文系統(tǒng)地論述了脈沖準(zhǔn)分子激光沉積技術(shù)的原理和現(xiàn)狀,采用脈沖準(zhǔn)分子激光氣相沉積技術(shù)制備了單分散性的Co納米顆粒薄膜和嵌埋Co顆粒的BaTiO<,3>納米復(fù)合薄膜;初步研究了不同背景氣壓和脈沖頻率對鈷納米薄膜表面形貌的影響及單分散性Co納米顆粒膜的生長機(jī)理,研究了嵌埋Co納米顆粒的BaTiO<,3>納米復(fù)合薄膜的制備及結(jié)構(gòu).論文工作的主要內(nèi)容和結(jié)論為:1.系統(tǒng)地論述了脈沖激光氣相沉積薄膜技術(shù)的原理、特點(diǎn)和這一研究領(lǐng)域的研究現(xiàn)狀,著重介紹了
2、脈沖激光沉積薄膜技術(shù)的研究動態(tài)和進(jìn)展情況.2.使用脈沖激光沉積技術(shù)(PLD)在Si(111)單晶襯底上制備了Co納米顆粒薄膜.初步研究了不同背景氣壓、基底溫度和脈沖頻率對鈷納米薄膜表面形貌的影響及納米微粒的形成機(jī)理.3.在MgO(100)基底上成功外延了嵌埋Co納米顆粒的BaTiO<,3>復(fù)合薄膜.測試分析結(jié)果表明BaTiO<,3>薄膜是沿c軸高取向的單晶,為四方晶體結(jié)構(gòu);薄膜表面均勻、致密、具有原子尺度的光滑性,其均方根表面粗糙度(R
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