激光化學氣相沉積光掩模版修復系統(tǒng)的研究.pdf

1、激光化學氣相沉積技術(shù)是目前掩模亮場缺陷修復的主要手段,它存在兩種不同的作用機理:光熱解離原理和光化學解離原理。 光熱解離原理利用了激光的熱效對沉積基底進行局域快速加熱,使局部溫度達到沉積所需溫度;光化學解離則適當波長的激光輻射直接激發(fā)氣體分子反應分解.為了對透明光掩模亮場區(qū)域進行修補，需要光化學解離過程誘導反應發(fā)生:當激光垂直作用于基底時，沉積薄膜會吸收激光能量導致表面溫度升高,從而引發(fā)光熱解離過程.由于光熱解離過程反應速率遠遠

2、大于光化學解離，光熱解離將成為主導放映。 為了便于工業(yè)生產(chǎn)應用，設(shè)計了在開放環(huán)境下進行機關(guān)化學氣相沉積的反應室和氣路控制系統(tǒng)，并通過合理的實驗步驟保證基底的清潔和惰性的反應環(huán)境。通過實驗，開放式環(huán)境下長時間的激光輻射容易造成薄膜質(zhì)量的下降。為了得到光掩模亮場區(qū)域附著力強、消光比高的金融Cr膜，分別采用了累積輻射時間和提高輻射功率密度的方法進行實驗。首先利用355nm的紫外激光器，采用1.2×107W/cm2的激光功率密度累積作用

3、60s，薄膜厚度雖有所增加,然而沉積薄膜結(jié)構(gòu)疏松.然后利用功率密度為1.3×108W/cm2的351nm紫外激光誘導Cr(CO)6分解,在1.5S內(nèi)獲得了高質(zhì)量的沉積薄膜,并通過了附著測試實驗.實驗表明,在開放環(huán)境下通過短時間、高功率密度輻射的方法能夠獲得滿足工業(yè)要求的金屬沉積薄膜.為了提高薄膜質(zhì)量,應對反應室做進一步的改進,使其完全排空氣對沉積反應的影響;對激光光速進行均化,保證激光輻射范圍內(nèi)薄膜的均勻生長;并利用在線監(jiān)測系統(tǒng)對薄膜生