微光學(xué)掃描器研究.pdf

1、目前掃描器多采用轉(zhuǎn)棱鏡或轉(zhuǎn)反射鏡來實(shí)現(xiàn)光斑的掃描，這種掃描方式隨著科學(xué)應(yīng)用要求的提高，暴露出了一些缺點(diǎn)，如體積較大，掃描速率比較低等。微光學(xué)技術(shù)是90年代發(fā)展起來的光電學(xué)科前沿技術(shù),是光電技術(shù)列陣化、微型化、智能化的主要發(fā)展方向。在國防、航空、航天領(lǐng)域中，微光學(xué)技術(shù)更是廣泛應(yīng)用于激光制導(dǎo)、光電跟蹤等。國內(nèi)在這方面的研究雖然起步稍遲，但目前也已受到普遍重視，掀起了研究熱潮。
　　 本文介紹了三種微光學(xué)掃描系統(tǒng)的原理和設(shè)計(jì)：開普勒型

2、望遠(yuǎn)掃描系統(tǒng)、伽利略型望遠(yuǎn)掃描系統(tǒng)和微反射式掃描系統(tǒng)。每種系統(tǒng)分成光學(xué)部分，機(jī)械驅(qū)動(dòng)部分以及驅(qū)動(dòng)電路部分進(jìn)行描述。其中光學(xué)部分的研究是本文的主要內(nèi)容。
　　 開普勒型望遠(yuǎn)掃描系統(tǒng),用光刻熱熔法制作了正透鏡陣列；通過以89C2051單片機(jī)為核心的驅(qū)動(dòng)電路，利用電磁力驅(qū)動(dòng)兩片微透鏡的相對移動(dòng)對入射光進(jìn)行偏轉(zhuǎn)。伽利略型望遠(yuǎn)掃描系統(tǒng),同樣以光刻熱熔法制作正透鏡陣列，負(fù)透鏡陣列則采用在正透鏡表面涂敷高折射率材料的方法制成；掃描原理與開普勒