二維低散射金屬支架涂覆方法研究.pdf

1、隱身技術(shù)在諸多武器中的廣泛應(yīng)用，雷達(dá)目標(biāo)電磁散射特性的研究愈發(fā)重要。雷達(dá)散射截面(RCS，radar cross section)測(cè)量是研究目標(biāo)電磁散射特性的重要方法。在目標(biāo)RCS預(yù)估中，精確的RCS測(cè)試技術(shù)可以檢驗(yàn)理論分析的結(jié)果并補(bǔ)充其不足。目標(biāo)支撐結(jié)構(gòu)是RCS測(cè)試場(chǎng)的重要組成部分，但其在支撐目標(biāo)的同時(shí)也增大了測(cè)試場(chǎng)中的背景噪聲。低散射金屬支架是支撐結(jié)構(gòu)中的一種，其具有較強(qiáng)的負(fù)重能力。為減小測(cè)試場(chǎng)的背景噪聲，在支架表面涂覆吸波材料可以

2、進(jìn)一步降低其后向RCS。
　　本文主要研究低散射金屬支架的吸波材料涂覆方法?；谟?jì)算效率的考慮，本文將三維金屬與介質(zhì)復(fù)合結(jié)構(gòu)的 RCS計(jì)算問題合理轉(zhuǎn)化為二維金屬與介質(zhì)復(fù)合結(jié)構(gòu)的RCS計(jì)算問題，來(lái)進(jìn)行涂覆方法的分析。本文采用基于電磁場(chǎng)積分方程的矩量法作為計(jì)算方法，該數(shù)值方法具有較高的精確度。建立了二維金屬涂覆介質(zhì)的電磁散射模型，并應(yīng)用矩量法對(duì)其方程進(jìn)行離散求解。應(yīng)用Fortran科學(xué)計(jì)算語(yǔ)言編寫計(jì)算程序。
　　吸波材料的吸收機(jī)

3、理以及其對(duì)后向RCS的影響由以下因素決定：涂層所在位置(照明區(qū)、陰影區(qū))、入射電磁波的極化方式(垂直極化、水平極化)和涂層自身的電磁參數(shù)(介電常數(shù)、磁導(dǎo)率及電厚度)。本文針對(duì)以上參數(shù)對(duì)后向RCS的影響做了詳細(xì)的分析，并對(duì)一種實(shí)際工程應(yīng)用的吸波材料做了吸波效果分析。由本文分析結(jié)果得到：入射波VV極化時(shí)，照明區(qū)的吸波涂層的厚度與其中電磁波波長(zhǎng)需滿足一定的比值才能使涂層形成能量吸收峰。當(dāng)吸波材料滿足廣義匹配規(guī)律時(shí)，可以通過調(diào)整廣義匹配常數(shù)來(lái)調(diào)