二維低散射金屬支架涂覆方法研究.pdf

1、隱身技術(shù)在諸多武器中的廣泛應(yīng)用，雷達(dá)目標(biāo)電磁散射特性的研究愈發(fā)重要。雷達(dá)散射截面(RCS，radar cross section)測量是研究目標(biāo)電磁散射特性的重要方法。在目標(biāo)RCS預(yù)估中，精確的RCS測試技術(shù)可以檢驗(yàn)理論分析的結(jié)果并補(bǔ)充其不足。目標(biāo)支撐結(jié)構(gòu)是RCS測試場的重要組成部分，但其在支撐目標(biāo)的同時(shí)也增大了測試場中的背景噪聲。低散射金屬支架是支撐結(jié)構(gòu)中的一種，其具有較強(qiáng)的負(fù)重能力。為減小測試場的背景噪聲，在支架表面涂覆吸波材料可以

2、進(jìn)一步降低其后向RCS。
　　本文主要研究低散射金屬支架的吸波材料涂覆方法。基于計(jì)算效率的考慮，本文將三維金屬與介質(zhì)復(fù)合結(jié)構(gòu)的 RCS計(jì)算問題合理轉(zhuǎn)化為二維金屬與介質(zhì)復(fù)合結(jié)構(gòu)的RCS計(jì)算問題，來進(jìn)行涂覆方法的分析。本文采用基于電磁場積分方程的矩量法作為計(jì)算方法，該數(shù)值方法具有較高的精確度。建立了二維金屬涂覆介質(zhì)的電磁散射模型，并應(yīng)用矩量法對其方程進(jìn)行離散求解。應(yīng)用Fortran科學(xué)計(jì)算語言編寫計(jì)算程序。
　　吸波材料的吸收機(jī)

3、理以及其對后向RCS的影響由以下因素決定：涂層所在位置(照明區(qū)、陰影區(qū))、入射電磁波的極化方式(垂直極化、水平極化)和涂層自身的電磁參數(shù)(介電常數(shù)、磁導(dǎo)率及電厚度)。本文針對以上參數(shù)對后向RCS的影響做了詳細(xì)的分析，并對一種實(shí)際工程應(yīng)用的吸波材料做了吸波效果分析。由本文分析結(jié)果得到：入射波VV極化時(shí)，照明區(qū)的吸波涂層的厚度與其中電磁波波長需滿足一定的比值才能使涂層形成能量吸收峰。當(dāng)吸波材料滿足廣義匹配規(guī)律時(shí)，可以通過調(diào)整廣義匹配常數(shù)來調(diào)