基于硅油稀釋聚二甲基硅氧烷法制備軟模板的紫外納米壓印技術.pdf

1、紫外納米壓印技術是一種室溫下即可進行的，具有高分辨率、高產(chǎn)能、低成本等優(yōu)點的納米壓印技術。紫外納米壓印的最小分辨率完全取決于模板的分辨率。軟壓印模板的傳統(tǒng)制備方法一般使用電子束直寫或者極紫外光刻技術，工藝復雜、成本昂貴、速度慢。且傳統(tǒng)的液態(tài)澆鑄法無法完成納米級點陣軟模板的制作。本論文使用具有高度均勻100納米級孔洞陣列結構的多孔氧化鋁作為母版，使用在傳統(tǒng)液態(tài)澆鑄法上改進的硅油稀釋聚二甲基硅氧烷法制備出具有規(guī)則點陣結構，特征尺度100納米

2、的軟模板。軟模板表面點陣結構在大部分區(qū)域得到了有效轉(zhuǎn)移，高寬比約為1：2。對于出現(xiàn)圖形缺失的原因，進行了分析和討論，并給出改進建議。相對于傳統(tǒng)的軟模板制備方法，硅油稀釋聚二甲基硅氧烷法有成本低、流程簡單、適合大規(guī)模生產(chǎn)的特點，是一種非常有前途的軟模板制備方法。本論文使用實驗制備的100納米級規(guī)則點陣結構軟模板，完成在玻璃基底上的紫外納米壓印過程，實現(xiàn)了軟模板上點陣圖形的轉(zhuǎn)移。轉(zhuǎn)移的圖形在部分區(qū)域有缺失，甚至發(fā)生圖形連結現(xiàn)象。對于產(chǎn)生以上