2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
已閱讀1頁,還剩75頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)

文檔簡介

1、ZnO是一種重要的壓電材料,該材料價格低廉,無毒無害,易形成單晶薄膜和擇優(yōu)取向薄膜,與硅比較匹配,能與半導(dǎo)體工藝兼容,便于加工成微型器件。在過去20年里對ZnO薄膜的制備工藝及壓電特性進行了廣泛的研究。近年來,基于壓電薄膜技術(shù)和微機械加工技術(shù)的微型壓電器件受到了人們的日益關(guān)注。
  本論文采用射頻濺射和直流反應(yīng)濺射的方法在硅基底上沉積了氧化鋅薄膜,對薄膜的制備工藝參數(shù)諸如基片溫度、濺射功率、濺射時間、濺射氣壓、氬氧比、熱處理溫度等

2、進行了系統(tǒng)的研究。經(jīng)X射線衍射測試,射頻濺射法制備的ZnO薄膜在一個寬的工藝“窗口”下都可獲得高度的c軸擇優(yōu)取向,衍射譜中僅有(002)衍射峰,沒有其它雜峰,而反應(yīng)濺射法制備的ZnO薄膜含有低強度的(100)和(110)衍射峰。通過原子力顯微鏡觀察,射頻濺射法制備薄膜的晶粒大小約為40-60nm。射頻濺射法制備薄膜的優(yōu)化參數(shù)為:襯底溫度400℃,氬氧比例為4:1,功率120W,濺射時間為150分鐘。對在500-700℃熱處理的射頻濺射法

3、制備ZnO薄膜進行了搖擺曲線測試,結(jié)果表明隨著熱處理溫度的升高,搖擺曲線的半高寬減小,表明薄膜的擇優(yōu)取向性增強。薄膜的壓電應(yīng)力常數(shù)也隨退火溫度的升高而略有增加。
  用ANSYS9.0有限元仿真軟件對ZnO壓電聲傳感器微懸臂梁結(jié)構(gòu)分別進行了靜力分析、動態(tài)分析及諧響應(yīng)分析。結(jié)果表明:在1Pa聲壓的作用下,微懸臂梁產(chǎn)生的最大電壓為16.4mV;傳感器的第一階固有頻率為12.379kHz;由諧響應(yīng)分析得到了在1kHz-30kHz頻率范圍

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論