超聲波磁流變復合拋光面形誤差修正技術研究.pdf

1、隨著現(xiàn)代光學技術飛速發(fā)展，非球面光學元件得到廣泛的應用，對光學元器件的面形精度及亞表層損傷程度的要求越來越高。自20世紀60年代以來，各國陸續(xù)發(fā)展了針對復雜曲面的計算機控制拋光技術，實現(xiàn)拋光過程的定量去除和確定性控制，計算機控制拋光技術已成為光學元件超精密加工的重要手段。受加工條件限制，現(xiàn)有的拋光技術很難應用于小曲率半徑的非球面光學元件的加工。計算機控制超聲波磁流變復合拋光技術是針對小曲率半徑的凹非球面和自由曲面光學元件的加工方法。本文

2、對計算機控制超聲波磁流變復合拋光面形誤差修正技術進行了研究，主要的研究工作包括以下幾個方面：
　　首先，研究計算機控制超聲波磁流變復合拋光駐留時間算法。根據面形誤差、去除函數數學模型及面形精度要求，編程實現(xiàn)反復卷積迭代求解駐留時間，分別研究了按比例估算及簡森-范希圖特法兩種駐留時間算法；為降低小拋光工具頭修正面形后留下的高頻誤差，規(guī)劃偽隨機一筆劃拋光軌跡。
　　其次，研究基于UG的NC代碼自動生成及加工仿真。建立工件的參數化

3、模型，基于UG/CAM生成拋光軌跡；利用UG/Post Builder開發(fā)針對超聲波磁流變復合拋光裝置的后置處理器；構建集成仿真與驗證(IS&V)系統(tǒng)，對加工過程中機床運動的正確性進行了仿真驗證；
　　最后，研究計算機控制面形修正拋光實驗。將生成的NC代碼和駐留時間相結合生成執(zhí)行代碼，計算機控制五軸聯(lián)動拋光系統(tǒng)進行面形修正實驗。隨機軌跡拋光采用平面工件進行面形修正實驗，研究拋光后工件表面的功率譜密度，研究結果表明隨機拋光軌跡能降低