基于環(huán)形磁流變拋光技術的超光滑拋光研究.pdf

1、石英玻璃在國防、化工、醫(yī)療、機械等各個領域發(fā)揮著極為重要的作用。石英玻璃的磁流變拋光技術的超光滑拋光工藝的研究，目前國內(nèi)這方面的報道較少。本論文對石英玻璃的磁流變拋光的研究工作在國內(nèi)是較早進行的。 磁流變拋光技術中，磁場強度、工作軸轉(zhuǎn)速、平擺速度、間隙等影響工件最終加工質(zhì)量的重要因素。本文采用正交實驗研究的方法，以石英玻璃為加工對象，利用實驗室磁流變拋光機開展研究，對精磨后的平面石英玻璃工件進行拋光工藝實驗，研究其拋光工藝參數(shù)與

2、石英玻璃表面粗糙度的關系。探討石英玻璃磁流變拋光的超光滑拋光工藝。同時對精磨、拋光后破壞層深度問題進行了初步探討。研究了主軸與擺軸之間速度匹配問題，采用正交試驗的研究方法，對Ф60mm的K9玻璃和石英玻璃分別進行拋光實驗。 通過研究表明：石英玻璃是可以實現(xiàn)超光滑加工。經(jīng)過組合拋光石英玻璃表面粗糙度達到了0．54037nm。并得出拋光的最佳工藝參數(shù)。石英玻璃表面的凹凸層深度和被磨去量僅與磨料粒度有關，與研磨前初始粗糙度無關。石英玻