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文檔簡介
1、針對光學儀器的使用要求，在10*1.8mm的K9基底鍍制抗激光損傷的高反射薄膜，能夠同時滿足半導體激光器和YAG激光器作為光源的特殊應(yīng)用。
本文根據(jù)薄膜干涉原理和使用技術(shù)要求進行膜料的選擇、利用TFC軟件進行膜系設(shè)計。采用電子束真空鍍膜并加以考夫曼離子源輔助沉積，通過對鍍制后基片的測試結(jié)果分析，調(diào)整鍍膜工藝參數(shù)和監(jiān)控方法減小了膜厚誤差。選擇TiO2和SiO2作為高低折射率材料，解決了薄膜的光學損耗和抗激光損傷等問題。
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